[发明专利]电子元器件的处理装置和处理方法

权利要求书

1.一种电子元器件的处理装置，其特征在于，包括：

第一平台，该第一平台能保持被传送物，并在第一前位置与第一后位置之间往返移动；

第二平台，该第二平台能保持所述被传送物，并在第二前位置与第二后位置之间往返移动，所述第二前位置是在所述第一平台位于所述第一前位置时与所述第一平台的所述第一后位置侧相邻的位置，所述第二后位置是在所述第一平台位于所述第一后位置时与所述第一平台的所述第一前位置侧相反一侧相邻的位置；

控制部，该控制部使所述第一平台从所述第一后位置移动至所述第一前位置，并且使所述第二平台与所述第一平台的移动同步地从所述第二后位置移动至所述第二前位置；

传输部，该传输部在通过所述控制部使所述第一平台从所述第一后位置移动至所述第一前位置，并且所述第二平台同步地从所述第二后位置移动至所述第二前位置的期间内，使所述被传送物从所述第一平台相对移动至所述第二平台，使得所述第二平台对所述第一平台所保持的所述被传送物进行保持；以及

处理部，该处理部在所述第二平台从所述第二前位置移动至所述第二后位置的期间内，对于所述第二平台所保持的所述被传送物进行处理。

2.如权利要求1所述的电子元器件的处理装置，其特征在于，还包括：

导入机构，该导入机构设置在所述第一前位置的与所述第一后位置相反一侧的导入区域，将所述被传送物从所述导入区域移至位于所述第一前位置的所述第一平台；以及

取出机构，该取出机构设置在所述第二后位置的与所述第二前位置相反一侧的取出区域，将所述被传送物从位于所述第二后位置的所述第二平台移至所述取出区域。

3.如权利要求1或2所述的电子元器件的处理装置，其特征在于，

所述传输部包含：第一传送机构，该第一传送机构设置于所述第一平台，具有能沿着传送所述被传送物的传送路径移动至所述第二平台侧的部分；以及

第二传送机构，该第二传送机构设置于所述第二平台，具有能沿着传送所述被传送物的传送路径移动至与所述第一平台相反一侧的部分。

4.一种电子元器件的处理方法，其特征在于，包括：

导入工序，在第一平台位于第一前位置时，所述第一平台开始保持被传送物；

第一传送工序，在所述导入工序后，所述第一平台在保持着所述被传送物的状态下，从所述第一前位置移动至第一后位置；

传输工序，所述第一平台从所述第一后位置移动至所述第一前位置，并且第二平台与所述第一平台的移动同步地从第二后位置移动至第二前位置，所述第二后位置是在所述第一平台位于所述第一后位置时与所述第一平台的所述第一前位置侧相反一侧相邻的位置，所述第二前位置是在所述第一平台位于所述第一前位置时与所述第一平台的所述第一后位置侧相邻的位置，在所述第一平台从所述第一后位置移动至所述第一前位置且所述第二平台与所述第一平台的移动同步地从所述第二后位置移动至所述第二前位置的期间内，使所述第一平台所保持的所述被传送物相对于所述第一平台和所述第二平台进行相对移动，使所述被传送物从所述第一平台移至所述第二平台，且所述第一平台解除保持所述被传送物，所述第二平台开始保持所述被传送物；

第二传送工序，在所述传输工序之后，所述第二平台在保持着所述被传送物的状态下，从所述第二前位置移动至所述第二后位置；

处理工序，在所述第二传送工序中，对所述第二平台所保持的所述被传送物进行处理；以及

取出工序，在所述第二传送工序和所述处理工序之后，位于所述第二后位置的所述第二平台解除保持所述被传送物，

在从开始所述第二传送工序到完成所述取出工序为止的期间内，进行所述第二传送工序和所述取出工序的所述被传送物的下一个所述被传送物完成所述导入工序和所述第一传送工序。

5.如权利要求4所述的电子元器件的处理方法，其特征在于，

同时地开始所述第二传送工序和所述处理工序。

6.如权利要求4或5所述的电子元器件的处理方法，其特征在于，并行地进行所述第二传送工序以及进行所述第二传送工序的所述被传送物的下一个所述被传送物的所述导入工序。