[发明专利]电子元器件的处理装置和处理方法

说明书

本发明提供一种能提高处理效率并减小设置空间的电子元器件的处理装置和处理方法。第一平台(12)在第一前位置导入被传送物(2b)并移动至第一后位置。通过控制部，第一平台(12)从第一后位置移动至第一前位置，第二平台(14)同步地从与第一后位置相邻的第二后位置移动至与第一前位置相邻的第二前位置。在该期间内，传输部(12f、14f)将被传送物(2b)从第一平台(12)移至第二平台(14)。在第二平台(14)从第二前位置移动至第二后位置期间内，处理部(20)对被传送物(2a)进行处理。在第二后位置从第二平台(14)完成取出被传送物(2a)之前，第一平台(12)导入下一个被传送物(2b)并位于第一后位置。

技术领域

本发明涉及电子元器件的处理装置和处理方法，详细地说，涉及边传送工件边对工件进行处理的电子元器件的处理装置。

背景技术

作为制造电子元器件的装置，已知有如下的处理装置：平台沿着工件的传送路径往返移动，在平台保持着工件沿一个方向移动的期间内，对工件进行加工等处理(例如，参照专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利特开2005－101115号公报

发明内容

发明所要解决的技术问题

在上述的处理装置中，平台在加工前位置开始保持工件，保持着工件进行移动，在加工后位置解除保持工件，之后从加工后位置向加工前位置移动，在加工前位置开始保持下一个工件。若缩短平台移动的时间、在加工后位置和在加工前位置停止的时间，则可提高处理效率。然而，只是这样提高处理效率存在极限，不能进一步提高处理效率。

此外，希望缩小处理装置的设置空间。

本发明鉴于上述情况，提供一种能提高处理效率且能缩小设置空间的电子元器件的处理装置和处理方法。

解决技术问题的技术方案

为了解决上述问题，本发明提供如下构成的电子元器件的处理装置。

处理装置包括：(a)第一平台，该第一平台能保持被传送物，并在第一前位置与第一后位置之间进行往返移动；(b)第二平台，该第二平台能保持所述被传送物，并在第二前位置与第二后位置之间进行往返移动，所述第二前位置是在所述第一平台位于所述第一前位置时与所述第一平台的所述第一后位置侧相邻的位置，所述第二后位置是在所述第一平台位于所述第一后位置时与所述第一平台的所述第一前位置的相反侧相邻的位置；(c)控制部，该控制部使所述第一平台从所述第一后位置移动至所述第一前位置，并且使所述第二平台与所述第一平台的移动同步地从所述第二后位置移动至所述第二前位置；(d)传输部，该传输部通过所述控制部，在所述第一平台从所述第一后位置同步移动至所述第一前位置且所述第二平台从所述第二后位置同步移动至所述第二前位置的期间内，使所述第一平台所保持的所述被传送物从所述第一平台相对移动至所述第二平台，从而由所述第二平台进行保持；(e)处理部，该处理部在所述第二平台从所述第二前位置移动至所述第二后位置的期间内，对于所述第二平台所保持的所述被传送物进行处理。

根据上述结构，能够使得在解除了对完成处理的被传送物的保持的第二平台从第二后位置移动至第二前位置的期间内，第二平台从第一平台接收下一个被传送物。由此，第二平台不需要为了接收下一个被传送物而停留在第二后位置，因此能取消或缩短第二平台停留在第二前位置的时间，从而能提高处理效率。

此外，通过构成为第一平台在第一后位置所占据的空间与第二平台在第二前位置所占据的空间重合，能减小处理装置的设置空间。