[发明专利]手机壳体表面高亮镜面效果的加工方法

权利要求书

1.一种手机壳体表面高亮镜面效果的加工方法，其特征在于，依次包含以下步骤：

S1、对手机壳体表面进行抛光；

S2、对手机壳体表面进行喷砂；

S3、清除手机壳体表面的氧化层和杂质；

S4、在电泳池中对手机壳体表面进行电泳着色，形成涂层膜覆于所述手机壳体表面；

S5、对涂层膜精抛，去除橘皮，得到高亮镜面效果手机壳体。

2.根据权利要求1所述的手机壳体表面高亮镜面效果的加工方法，其特征在于，所述步骤S4包含以子下步骤：

将所述手机壳体通过支架置于电泳池中；

对电泳池中的电泳漆进行电解，直至所述手机壳体表面形成涂层膜。

3.根据权利要求2所述的手机壳体表面高亮镜面效果的加工方法，其特征在于，所述支架为导电支架。

4.根据权利要求2所述的手机壳体表面高亮镜面效果的加工方法，其特征在于，所述电泳漆呈中性，且由弥散相和连续相组成。

5.根据权利要求4所述的手机壳体表面高亮镜面效果的加工方法，其特征在于，所述电泳漆的弥散相包含树脂、颜料微粒和成膜助剂；所述电泳漆的连续相包含水；其中，所述连续相的质量百分含量为80％～90％。

6.根据权利要求1所述的手机壳体表面高亮镜面效果的加工方法，其特征在于，所述步骤S4中电泳着色的温度为55℃～65℃。

7.根据权利要求1所述的手机壳体表面高亮镜面效果的加工方法，其特征在于，所述步骤S4中形成的涂层膜的厚度为40μm～90μm。

8.根据权利要求1所述的手机壳体表面高亮镜面效果的加工方法，其特征在于，所述步骤S5中涂层膜被精抛的厚度为15μm～25μm。

9.根据权利要求1所述的手机壳体表面高亮镜面效果的加工方法，其特征在于，所述步骤S2中对手机壳体表面进行喷砂时，所述手机壳体位于密闭的空间内，且所述手机壳体以预设的传送速度通过所述密闭空间。

10.根据权利要求9所述的手机壳体表面高亮镜面效果的加工方法，其特征在于，所述手机壳体在所述密闭空间内的传送速度与喷砂速度成预设比例。

11.根据权利要求1所述的手机壳体表面高亮镜面效果的加工方法，其特征在于，所述步骤S3中清除手机壳体表面的氧化层和杂质的方法为水洗、超声波洗、碱洗或酸洗。

12.根据权利要求1所述的手机壳体表面高亮镜面效果的加工方法，其特征在于,所述步骤S4之后还包含如下步骤：

去除手机壳体表面污渍和/或对手机壳体表面进行烘干。

13.根据权利要求12所述的手机壳体表面高亮镜面效果的加工方法，其特征在于，在对所述手机壳体表面进行烘干的步骤中，包含如下子步骤：

对放置所述手机壳体的环境进行预热，预热温度为75℃～85℃；

对所述手机壳体表面进行烘烤，烘烤温度为140℃～160℃。