[发明专利]用于显影设备的排气箱及黄光制程显影设备

说明书

技术领域

本发明涉及一种液晶面板制造技术，特别是一种用于阵列制程涂胶、曝光后进行显影制程的用于显影设备的排气箱及黄光制程显影设备。

背景技术

薄膜晶体管液晶显示器制程中，阵列制程的黄光制程涂胶、曝光后进行的显影制程，多采用浸渍处理方式(Puddle方式)，主要作用是：当是正性光阻时，与曝光后的光阻进行反应使其溶解在显影液中，当是负性光阻时，与没有曝光的光阻进行反应使其溶解在显影液中，经过显影制程后，基板光阻可以定义出曝光膜(Mask)的图形，对底层须定义的电路图形进行保护，再进行后续蚀刻与光阻剥离制程，最终在基板上制作出电路图形。目前，经过涂布曝光制程后的基板执行Puddle方式显影时，可能因为厂务排气流量不稳定，导致显影腔体排气出现气流紊乱，将可能导致在显影液未涂布前，显影蒸汽提前轰击至基板的光阻上，由于阵列制成中光阻对显影液异常敏感，将导致基板上部分光阻提前显影，造成本该有光阻保护的区域裸露，出现光阻断线问题，进而后续蚀刻制程时，造成电路图形断路。

发明内容

为克服现有技术的不足，本发明提供一种用于显影设备的排气箱及黄光制程显影设备，从而使显影腔室内的排气均匀。

本发明提供了一种用于显影设备的排气箱，包括箱体，所述箱体的其中一侧表面上设有均匀分布的排气孔，在箱体上设有与箱体内腔连通的连接管。

进一步地，所述排气孔呈蜂窝状排布。

进一步地，所述排气孔的孔径为10～20mm。

进一步地，所述箱体为长方体。

本发明还提供了一种黄光制程显影设备，包括多个相互拼接而成的显影腔室，在显影腔室中设有用于将待显影基板依次输送至每个显影腔室中的传送机构，在每个显影腔室的同一位置上分别设有与显影腔室连通的排气管，所述排气管上设有风量调节阀，还包括所述的用于显影设备的排气箱，每个显影腔室内分别设有一个与排气管连接的排气箱，所述排气孔与显影腔室的顶部相对，连接管与排气管相连。

进一步地，每个排气管的排气量按照显影腔室的排列顺序从头到尾排气量依次增大。

进一步地，所述排气孔呈蜂窝状排布。

进一步地，所述排气孔的孔径为10～20mm。

进一步地，所述箱体为长方体。

进一步地，所述箱体的长度为300～800mm，宽度为100～200mm，高度为100～200mm。

本发明与现有技术相比，通过设置排气箱，在排气箱上均匀设置排气孔并且排气孔朝上，使得显影腔室内的排气均匀，避免单一排气孔排气造成显影蒸汽流向紊乱现象，改善黄光制成后因显影排气设计不合理造成的光阻破孔及光阻线路断线现象。

附图说明

图1是本发明的排气箱的外部结构示意图；

图2是本发明的排气箱的内部结构示意图；

图3是本发明的黄光制程显影设备的结构示意图；

图4是本发明的黄光制程显影设备的局部示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步详细说明。

如图1和图2所示，本发明的用于显影设备的排气箱包括箱体1，箱体1所述箱体1的其中一侧表面上设有均匀分布的排气孔2，在箱体1上设有与箱体1内腔连通的连接管3；所述排气孔2设置在箱体1面积最大的一侧表面上。

作为箱体1的一种较佳实施方式，箱体1为长方体，具有四个上、下、左右四个端面以及两个侧面，排气孔2设置在其中一个端面上；箱体1优选为：长度为300～800mm，宽度为100～200mm，高度为100～200mm；本发明箱体1的尺寸不限于此，还可根据显影设备的显影腔室的大小进行调整。

所述排气孔2呈蜂窝状排布，排气孔2的孔径为10～20mm，排气孔2的密度可根据实际要求进行设置。