[发明专利]晶片透镜、晶片透镜阵列、晶片透镜叠层体及晶片透镜阵列叠层体有效
申请号: | 201710102466.6 | 申请日: | 2014-08-19 |
公开(公告)号: | CN106886082B | 公开(公告)日: | 2020-10-02 |
发明(设计)人: | 和木敏则;浜田豊三;寺内利浩 | 申请(专利权)人: | 株式会社大赛璐 |
主分类号: | G02B13/00 | 分类号: | G02B13/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 张涛 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 晶片 透镜 阵列 叠层体 | ||
1.一种晶片透镜阵列,其具有:
一维或二维排列的多个透镜部1,
非透镜部2,其结合于各透镜部1的周围且将多个透镜部1互相连结在一起,以及
遮光部3,其设置于被拍摄体侧的透镜部1和/或非透镜部2;其中,
透镜部1的高度与遮光部3的高度满足式(1),且遮光部3以覆盖透镜部1的一部分但不与之接触的方式设置,遮光部3与非透镜部2接触设置,
透镜部1的高度遮光部3的高度…式(1)
式(1)中的“高度”是指:以被拍摄体侧为上表面将晶片透镜阵列载置于水平面时从水平面至各部的被拍摄体侧表面的垂直距离,而且,透镜部1和/或遮光部3中存在多个高度不同的部位时,是指其中最高部位的高度。
2.根据权利要求1所述的晶片透镜阵列,其中,透镜部1的高度、非透镜部2的高度及遮光部3的高度满足式(2),
非透镜部2的高度≤透镜部1的高度遮光部3的高度…式(2)
式(2)中的“高度”与式(1)中的高度表示相同的意义,而且,透镜部1和/或非透镜部2和/或遮光部3中存在多个高度不同的部位时,是指其中最高部位的高度。
3.根据权利要求1所述的晶片透镜阵列,其中,透镜部1的高度、非透镜部2的高度及遮光部3的高度满足式(3),
透镜部1的高度非透镜部2的高度遮光部3的高度…式(3)
式(3)中的“高度”与式(1)中的高度表示相同的意义,而且,透镜部1和/或非透镜部2和/或遮光部3中存在多个高度不同的部位时,是指其中最高部位的高度。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的晶片透镜阵列,其中,遮光部3以覆盖非透镜部2的全部的方式设置。
5.一种晶片透镜阵列叠层体,其将至少含有一个权利要求1~3中任一项所述的晶片透镜阵列的多个晶片透镜阵列叠层而构成。
6.一种晶片透镜阵列叠层体,其是将至少含有一个权利要求1~3中任一项所述的晶片透镜阵列的多个晶片透镜阵列叠层而构成的晶片透镜阵列叠层体,其中,多个晶片透镜阵列中,位于最接近被拍摄体侧的晶片透镜阵列为权利要求1~3中任一项所述的晶片透镜阵列。
7.一种晶片透镜,其具有:
一个透镜部1,
非透镜部2,其结合于透镜部1的周围,以及
遮光部3,其设置于被拍摄体侧的透镜部1和/或非透镜部2;其中,
透镜部1的高度、非透镜部2的高度及遮光部3的高度满足式(2),且遮光部3以覆盖透镜部1的一部分的方式设置,
非透镜部2的高度≤透镜部1的高度遮光部3的高度…式(2)
式(2)中的“高度”是指:以被拍摄体侧为上表面将晶片透镜载置于水平面时从水平面至各部的被拍摄体侧表面的垂直距离,而且,透镜部1和/或非透镜部2和/或遮光部3中存在多个高度不同的部位时,是指其中最高部位的高度。
8.根据权利要求7所述的晶片透镜,其中,遮光部3以覆盖非透镜部2的全部的方式设置。
9.一种晶片透镜,其将权利要求1~3中任一项所述的晶片透镜阵列切断而得到。
10.一种晶片透镜叠层体,其将至少含有一个权利要求7所述的晶片透镜的多个晶片透镜叠层而构成。
11.一种晶片透镜叠层体,其是将至少含有一个权利要求7所述的晶片透镜阵列的多个晶片透镜阵列叠层而构成的晶片透镜阵列叠层体,其中,多个晶片透镜中,位于最接近被拍摄体侧的晶片透镜为权利要求7所述的晶片透镜。
12.一种晶片透镜叠层体,其将权利要求5或6所述的晶片透镜阵列叠层体切断而得到。
13.一种透镜组件,其使用权利要求7~9中任一项所述的晶片透镜或权利要求10~12中任一项所述的晶片透镜叠层体而得到。
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