[发明专利]微痕量荧光探测仪有效值补偿方法及系统有效
| 申请号： | 201710109577.X | 申请日： | 2017-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN107101980B | 公开（公告）日： | 2020-09-25 |
| 发明（设计）人： | 刘秦豫;吴哲;张天琪;王先松 | 申请（专利权）人： | 深圳砺剑防卫技术有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64 |
| 代理公司： | 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 | 代理人： | 赵勍毅 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市福*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 痕量 荧光 探测仪 有效值 补偿 方法 系统 | ||
1.一种微痕量荧光探测仪有效值补偿方法，其特征在于，该方法包括如下步骤：
a.采集获得膜片荧光值的原始数据A，所述原始数据A包括：A1,A2,A3,……An-1,An,An+1；
b.对上述原始数据进行平滑滤波：Wn＝(An-j,+An-j+1,+An,+An+j-1,+An+j)/(2j-1)，得到数据W1,W2,W3,……Wn-1,Wn,Wn+1，其中j为常量；
c.根据上述平滑滤波后的数据，计算得到检测峰值；
d.对上述检测峰值进行修正，以对荧光材料检测有效值进行补偿；
所述的步骤c具体包括：
利用微分方法求取检测峰值Hi＝Wi-n-Wi，得到数据H1,H2,H3,……Hn-1,Hn,Hn+1；
所述的步骤d具体包括：
采用公式：Jn＝(Q/Wn)b*Hn对上述检测峰值进行修正，其中，Q与采样数据的最大值有关，b与膜片灵敏度和荧光衰减有关。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述的步骤a具体包括：
利用模数转换器采集获得膜片荧光值的原始数据A。
3.一种微痕量荧光探测仪有效值补偿系统，其特征在于，该系统包括采集模块、滤波模块、计算模块及补偿模块，其中：
所述采集模块用于采集获得膜片荧光值的原始数据A，所述原始数据A包括：A1,A2,A3,……An-1,An,An+1；
所述滤波模块用于对上述原始数据进行平滑滤波：Wn＝(An-j,+An-j+1,+An,+An+j-1,+An+j)/(2j-1)，得到数据W1,W2,W3,……Wn-1,Wn,Wn+1，其中j为常量；
所述计算模块用于根据上述平滑滤波后的数据，计算得到检测峰值；
所述补偿模块用于对上述检测峰值进行修正，以对荧光材料检测有效值进行补偿；
所述的计算模块具体用于：
利用微分方法求取检测峰值Hi＝Wi-n-Wi，得到数据H1,H2,H3,……Hn-1,Hn,Hn+1；
所述的补偿模块具体用于：
采用公式：Jn＝(Q/Wn)b*Hn对上述检测峰值进行修正，其中，Q与采样数据的最大值有关，b与膜片灵敏度和荧光衰减有关。
4.如权利要求3所述的系统，其特征在于，所述的采集模块具体用于：
利用模数转换器采集获得膜片荧光值的原始数据A。
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