[发明专利]一种纳米压印屏蔽玻璃及其制作方法

说明书

本发明提供一种纳米压印屏蔽玻璃及其制作方法，包括有机玻璃衬底、形成于有机玻璃衬底上、预先压印有图案沟槽的低粘度单体衬底层及绝缘层；低粘度单体衬底层外侧四周设置有导电银浆层以及形成于导电银浆层上的导电材料层；在低粘度单体衬底层的图案沟槽中设置有与图案形状对应的纳米导电层，通过在有机玻璃衬底上形成与沟槽图像相匹配的纳米导电层，采用纳米压印技术在玻璃上直接加工金属网格屏蔽层，产品的屏效、透光率、角度皆可根据实际要求进行调整，低粘度单体衬底层外侧四周设置有导电银浆层和导电材料层，这样的设计由于没有金属网伸出，所以只需在有机玻璃衬底边缘采用导电材料连接使其和外壳连接，产品使用更简单，效果更好。

[技术领域]

本发明涉及玻璃生产制作方法技术领域，尤其涉及一种可以灵活调节产品的屏效、透光率、角度等特征的纳米压印屏蔽玻璃及其制作方法。

[背景技术]

近些年，随着电子电器设备的大量应用，电磁波在空间传播，造成了电子设备的相互干扰和信息泄漏，这样的情况下，就很容易带来电子设备以及自动控制系统的错误动作和信息被剽窃，同时对人造成危害。

屏蔽玻璃可以对信号进行屏蔽处理，保证电子电器设备的安全性，传统屏蔽玻璃主要是采用玻璃加金属丝网工艺制作而成，金属网为进口产品，需要黑化处理，产品的成本很高，屏效主要取决于进口网，且对产品性能的改善空间很小。另外，金属网和显示屏有角度要求，否则会产生莫尔纹，这样一来产品的利用率更低。

现有的纳米压印技术是在有机玻璃或复合玻璃的有机层采用纳米压印技术做出的，产品设计更灵活，莫尔纹可以通过模具设计避免，透光率、屏效皆可灵活设计。

[发明内容]

为克服现有技术所存在的问题，本发明提供一种可以灵活调节产品的屏效、透光率、角度等特征的纳米压印屏蔽玻璃及其制作方法。

本发明解决技术问题的方案是提供一种纳米压印屏蔽玻璃及其制作方法，包括有机玻璃衬底、形成于有机玻璃衬底上、预先压印有图案沟槽的低粘度单体衬底层以及形成于低粘度单体衬底层上的绝缘层；在所述低粘度单体衬底层外侧四周设置有导电银浆层以及形成于导电银浆层上的导电材料层；在所述低粘度单体衬底层的图案沟槽中设置有与图案形状对应的纳米导电层。

优选地，所述纳米导电层与低粘度单体衬底层的厚度相同。

优选地，所述有机玻璃衬底的厚度范围为0.05-0.1毫米；图案沟槽的厚度范围为3-15微米；绝缘层的厚度范围为0.05-0.1毫米；导电银浆层的厚度范围为0.05-0.1 毫米；导电材料层的厚度范围为0.3-1.5毫米。

一种纳米压印屏蔽玻璃的制作方法，其特征在于：包括以下步骤，

S1、制作具有图案沟槽的石英玻璃掩膜板；

S2、压印低粘度的单体衬底；预备有机玻璃衬底，并将低粘度的单体溶液处理在有机玻璃衬底上，用步骤S1中制作好的石英玻璃掩膜板缓慢压在该有机玻璃衬底上，使单体溶液均匀填充到石英玻璃掩膜板的空腔中，制备得到单体衬底；

S3、紫外光固化成型；用强度为100-300mw/cm²的紫外光对步骤S2中制得的单体衬底进行紫外光固化，固化时长为1-2分钟，使其成型，然后去除石英玻璃掩膜板；

S4、蚀刻残留层；移除石英玻璃掩膜板后得到的单体衬底沟槽和石英玻璃掩膜板的深度一致，蚀刻处理单体衬底沟槽底部的残留层，得到更深的单体衬底沟槽；

S5：进行图案转移；在单体衬底沟槽中印刷导电物质，形成与单体衬底沟槽图像相匹配的纳米导电层；

S6、在单体衬底外侧周缘印刷一导电银浆层，在导电银浆层上再覆盖一层导电材料层；制备得到该纳米压印屏蔽玻璃。

优选地，所述纳米导电层采用高导电率的纳米铜或银制作而成。