[发明专利]一种显示基板、显示基板的制作方法以及显示面板

权利要求书

1.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：

在衬底上依次形成开关器件层和第一电极层；

形成图形化像素定义层以及位于所述图形化像素定义层上的图形化疏水材料层，所述图形化像素定义层定义出多个子像素区域；

依次在所述多个子像素区域内形成有机发光层和第二电极层。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，形成图形化像素定义层以及位于所述图形化像素定义层上的图形化疏水材料层，包括：

在所述开关器件层和所述第一电极层上形成像素定义层；

在所述像素定义层上形成疏水材料层；

在所述疏水材料层远离所述像素定义层的一侧进行曝光处理；

对所述像素定义层进行显影，以去除部分所述像素定义层以及位于所述部分像素定义层上的疏水材料层，获得所述图形化像素定义层以及所述图形化疏水材料层。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，采用旋转式涂布或狭缝式涂布的方式将所述疏水材料层形成于所述像素定义层上。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述图形化疏水材料层的厚度取值范围为0.1nm至20nm。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述图形化像素定义层的厚度取值范围为1μm至5μm。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述图形化疏水材料层的材料包括含氟聚合物。

7.一种显示基板，其特征在于，包括：

衬底；

形成在所述衬底上的开关器件层；

形成在所述开关器件层上的第一电极层；

形成在所述第一电极层上的图形化像素定义层，所述图形化像素定义层限定出多个子像素区域；

形成在所述图形化像素定义层上的图形化疏水材料层；

以及，形成在所述多个子像素区域内的有机发光层和第二电极层。

8.根据权利要求7所述的显示基板，其特征在于，所述图形化疏水材料层的厚度取值范围为0.1nm至20nm。

9.根据权利要求7所述的显示基板，其特征在于，所述图形化疏水材料层的材料包括含氟聚合物。

10.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求7-9任一项所述的显示基板。