[发明专利]光学膜材及其制备方法、显示基板、显示装置

权利要求书

1.一种光学膜材，其特征在于，包括：

基底，其上具有凹槽，所述凹槽平行于其底面所在平面的横截面积，沿背离所述底面的方向逐渐增大；

平坦化层，位于所述基底具有凹槽的一侧，且所述平坦化层的折射率大于所述基底的折射率。

2.根据权利要求1所述的光学膜材，其特征在于，所述凹槽为多个，且多个所述凹槽呈阵列排布。

3.根据权利要求1或2所述的光学膜材，其特征在于，所述凹槽为正多边形棱台。

4.根据权利要求3所述的光学膜材，其特征在于，所述凹槽为正四边形棱台。

5.根据权利要求4所述的光学膜材，其特征在于，所述凹槽在所述基底上正投影的边长为L，所述基底上两相邻的所述凹槽之间的距离为L＇，且L＝L＇。

6.根据权利要求5所述的光学膜材，其特征在于，所述L和所述L＇的取值范围均在1μm至5μm。

7.根据权利要求1或2所述的光学膜材，其特征在于，所述凹槽的侧面与底面的延伸方向之间的夹角的取值范围在30°至70°。

8.根据权利要求1所述的光学膜材，其特征在于，所述凹槽的深度的取值范围在500nm至1μm；所述平坦化层的厚度的取值范围在1μm至2μm。

9.根据权利要求1或2所述的光学膜材，其特征在于，所述平坦化层的材料为透明导电材料。

10.一种显示基板，其特征在于，包括权利要求1-9中任一项所述的光学膜材。

11.根据权利要求10所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括位于所述基底背离所述凹槽的侧面上的彩膜层。

12.一种光学膜材的制备方法，其特征在于，包括：

对基底进行刻蚀，形成凹槽，且所述凹槽平行于其底面所在平面的横截面积，沿背离所述底面的方向逐渐增大；在形成所述凹槽的基底上形成平坦化层。

13.根据权利要求12所述的制备方法，其特征在于，所述对基底进行刻蚀，形成凹槽的步骤具体包括：

在基底上涂覆光刻胶，进行曝光显影形成光刻胶保留区和光刻胶未保留区；

对光刻胶未保留区采用等离子刻蚀设备进行刻蚀形成所述凹槽；

剥离去除光刻胶保留区的光刻胶；

所述在形成所述凹槽的基底上形成平坦化层的步骤具体包括：

利用磁控溅射的方法，在形成凹槽的基底上溅射生长形成一层平坦化层。

14.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求10或11所述的显示基板。