[发明专利]光学膜材及其制备方法、显示基板、显示装置

说明书

技术领域

本发明属于显示技术领域，具体涉及一种光学膜材及其制备方法、显示基板、显示装置。

背景技术

传统制程制作出来的TFT-LCD所存在的问题是，当背光源通过偏光片、薄膜晶体管(TFT)等输出之后，输出的光线便具有了方向性，也就是说，大多数光都是从屏幕中垂直射出来的，所以，当从某一个较大的角度来观看LCD时，便不能看到原本的颜色，甚至只能看到全黑或全白。特别是TN模式的TFT-LCD显示器由于液晶的旋转方式导致其视角更小，当视角增大时，画面显示质量严重下降。随着人们对显示器画面的品质的追求，使得对TFT-LCD的要求越来越高，因此，如何能增大TFT-LCD的视角已经引起人们越来越多的研究。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提供一种视角广、显示效果佳的光学膜材及其制备方法、显示基板、显示装置。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种光学膜材，包括：

基底，其上具有凹槽，所述凹槽平行于其底面所在平面的横截面积，沿背离所述底面的方向逐渐增大；平坦化层，位于所述基底具有凹槽的一侧，且所述平坦化层的折射率大于所述基底的折射率。

优选的是，所述凹槽为多个，且多个所述凹槽呈阵列排布。

优选的是，所述凹槽为正多边形棱台。

进一步优选的是，所述凹槽为正四边形棱台。

进一步优选的是，所述凹槽在所述基底上正投影的边长为L，所述基底上两相邻的所述凹槽之间的距离为L＇，且L＝L＇。

进一步优选的是，所述L和所述L＇的取值范围均在1μm至5μm。

优选的是，所述凹槽的深度的取值范围在500nm至1μm；所述平坦化层的厚度的取值范围在1μm至2μm。

优选的是，所述凹槽的侧面与底面延伸方向之间的夹角的取值范围在30°至70°。

优选的是，所述平坦化层的材料为透明导电材料。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种显示基板，其包括上述的光学膜材。

优选的是，所述显示基板还包括位于所述基底背离所述凹槽的侧面上的彩膜层。解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种显示基板的制备方法，包括：

对基底进行刻蚀，形成凹槽，且所述凹槽平行于其底面所在平面的横截面积，沿背离所述底面的方向逐渐增大；在形成所述凹槽的基底上形成平坦化层。

优选的是，所述对基底进行刻蚀，形成凹槽的步骤具体包括：

在基底上涂覆光刻胶，进行曝光显影形成光刻胶保留区和光刻胶未保留区；

对光刻胶未保留区采用等离子刻蚀设备进行刻蚀形成所述凹槽；

剥离去除光刻胶保留区的光刻胶。

所述在形成所述凹槽的基底上形成平坦化层的步骤具体包括：

利用磁控溅射的方法，在形成凹槽的基底上溅射生长形成一层平坦化层。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种显示装置，其包括上述的显示基板。

本发明具有如下有益效果：

由于本发明的显示基板的基底上具有凹槽，且该凹槽平行于其底面所在平面的横截面积，沿背离所述底面的方向逐渐增大，因此，凹槽的侧面可以对入射光进行折射，从而扩大光线出射的角度范围。另外需要注意的是垂直于凹槽的底部或者垂直于凹槽之间的水平面入射的光束，经过界面处时不会发生折射，因此保持了正视角下的光的亮度。

附图说明

图1为本发明的实施例1的光学膜材的俯视图；

图2为图1的A-B剖视图；

图3为光线照射本发明的实施例1的光学膜材的示意图；

图4为本发明的实施例1的光学膜材上的凹槽的结构示意图；

图5为本发明的实施例2的光学膜材的制备方法的流程图；

图6为本发明的实施例3的显示装置的结构示意图。

其中附图标记为：1、基底；2、光刻胶；21、光刻胶保留区；3、凹槽；4、平坦层；5、阵列基板的基底；6和8、取向层；7、液晶层；9、彩膜层。

具体实施方式

为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细描述。

实施例1：