[发明专利]一种大麻的人工光环境栽培方法

权利要求书

1.一种大麻的人工光环境栽培方法，其特征在于：包括如下步骤：

（1）将泥炭土和蛭石均匀混合后形成基质，保证透气渗水性良好，用稀释后的多菌灵浇灌以消毒；

（2）育苗期培养：将步骤（1）消毒后的基质装于播种盘中，然后播种，表面覆盖薄膜，然后移入室内，于22~24℃、空气湿度60~70%的条件下培养后，剔除长势较弱的幼苗，得到高16~20cm的幼苗，具体培养条件如下：光照强度200~300umol/m²*s，光照周期20~24h/d，其中，该步骤的光照周期中的光谱能量分布如下：波长为380~399nm的光量子数所占比例为0.2%，波长为400~499nm的光量子数所占比例为26.9%，波长为500~599nm的光量子数所占比例为17.0%，波长为600~699nm的光量子数所占比例为54.5%，波长为700~780nm的光量子数所占比例为1.4%，同时，波长为600~699nm的光量子数与波长为400~499nm的光量子数的比例为2.02:1；

（3）生长期培养：将步骤（2）获得的幼苗移植到培养盆中，于22~24℃、空气湿度60~70%的条件下进行定植培养至植株高度超过1m，同时根据土壤湿度和大麻生长情况定期浇水和营养液，统计株高和节间长度，具体培养条件如下：光照强度400~500umol/m²*s，光照周期20~24h/d，其中，该步骤的光照周期中的光谱能量分布如下：波长为380~399nm的光量子数所占比例为0，波长为400~499nm的光量子数所占比例为11.6%，波长为500~599nm的光量子数所占比例23.8%，波长为600~699nm的光量子数所占比例为50.3%，波长为700~780nm的光量子数所占比例为14.3%，同时，波长为600~699nm的光量子数与波长为400~499nm的光量子数的比例为4.33:1；

（4）生殖期培养：步骤（3）获得的植株打顶，去掉顶梢1.5~2.5cm，以促进分支生长，然后于22~24℃、空气湿度60~70%的条件下进行培养至开花且超过50%的花苞里的须毛变成橘色或是泛红的紫色，即可采收，具体培养条件如下：光照强度400~500umol/m²*s，光照周期小于12h/d以促进开花，其中，该步骤的光照周期中的光谱能量分布如下：波长为380~399nm的光量子数所占比例为1.9%，波长为400~499nm的光量子数所占比例为11.5%，波长为500~599nm的光量子数所占比例为23.7%，波长为600~699nm的光量子数所占比例为48.7%，波长为700~780nm的光量子数所占比例为14.2%，同时，波长为600~699nm的光量子数与波长为400~499nm的光量子数的比例为4.23:1。

2.如权利要求1所述的人工光环境栽培方法，其特征在于：所述步骤（1）中的基质由泥炭土和蛭石以1:1的质量比混合而成。

3.如权利要求1所述的人工光环境栽培方法，其特征在于：所述步骤（2）至（4）中的湿度为70%。

4.如权利要求1所述的人工光环境栽培方法，其特征在于：所述步骤（2）和（3）的光照周期均为24 h/d。