[发明专利]一种大麻的人工光环境栽培方法有效
申请号: | 201710126827.0 | 申请日: | 2017-03-03 |
公开(公告)号: | CN106900505B | 公开(公告)日: | 2022-12-06 |
发明(设计)人: | 李阳;马健;包书林;王婷婷 | 申请(专利权)人: | 福建省中科生物股份有限公司 |
主分类号: | A01G31/00 | 分类号: | A01G31/00;A01G24/28;A01G24/15;A01G7/04 |
代理公司: | 厦门市首创君合专利事务所有限公司 35204 | 代理人: | 张松亭;姜谧 |
地址: | 362000 福建省*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 大麻 人工 环境 栽培 方法 | ||
本发明公开了一种大麻的人工光环境栽培方法,包括如下步骤:(1)将泥炭土和蛭石均匀混合后形成基质,保证透气渗水性良好,用稀释后的多菌灵浇灌以消毒;(2)育苗期培养;(3)生长期培养;(4)生殖期培养。本发明的人工光环境栽培方法能够提供大麻生长所需要的光照强度和光谱,为实现集约化、规模化和标准化种植大麻打下了坚实的基础。
技术领域
本发明属于植物栽培技术领域,具体涉及一种大麻的人工光环境栽培方法。
背景技术
工业大麻的应用涉及生态保健食品、纺织、生物工程材料、造纸、军需及其它轻工业领域,近年来国内外发展迅速,在医疗价值上大麻可以被用于癌症病人化疗之后的恶心辅助治疗、脑瘫慢性疼痛,多发性硬化症、镇痛、癫痫及减轻艾滋病综合症状等作用。工业大麻为雌雄异株异花授粉植物,品种内个体间差异较大,对栽培利用和科学试验带来不利影响,易受环境影响而波动。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术缺陷,提供一种大麻的人工光环境栽培方法。
本发明的技术方案如下:
一种大麻的人工光环境栽培方法,包括如下步骤:
(1)将泥炭土和蛭石均匀混合后形成基质,保证透气渗水性良好,用稀释后的多菌灵浇灌以消毒;
(2)育苗期培养:将步骤(1)消毒后的基质装于播种盘中,然后播种,表面覆盖薄膜,然后移入室内,于22~24℃、空气湿度60~70%的条件下培养后,剔除长势较弱的幼苗,得到高16~20cm的幼苗,具体培养条件如下:光照强度200~300umol/m2*s,光照周期20~24h/d,其中,该步骤的光照周期中的光谱能量分布如下:波长为380~399nm的光量子数所占比例≤1%,波长为400~499nm的光量子数所占比例为20~30%,波长为500~599nm的光量子数所占比例15~22%,波长为600~699nm的光量子数所占比例为50~56%,波长为700~780nm的光量子数所占比例≤2%;
(3)生长期培养:将步骤(2)获得的幼苗移植到培养盆中,于22~24℃、空气湿度60~70%的条件下进行定植培养至植株高度超过1m,同时根据土壤湿度和大麻生长情况定期浇水和营养液,统计株高和节间长度,具体培养条件如下:光照强度400~500umol/m2*s,光照周期20~24h/d,其中,该步骤的光照周期中的光谱能量分布如下:波长为380~399nm的光量子数所占比例≤3%,波长为400~499nm的光量子数所占比例为10~15%,波长为500~599nm的光量子数所占比例为20~30%,波长为600~699nm的光量子数所占比例为45~55%,波长为700~780nm的光量子数所占比例为10~16%;
(4)生殖期培养:步骤(3)获得的植株打顶,去掉顶梢1.5~2.5cm,以促进分支生长,然后于22~24℃、空气湿度60~70%的条件下进行培养至开花且超过50%的花苞里的须毛变成橘色或是泛红的紫色,即可采收,具体培养条件如下:光照强度400~500umol/m2*s,光照周期小于12h/d以促进开花,其中,该步骤的光照周期中的光谱能量分布如下:波长为380~399nm的光量子数所占比例≤2%,波长为400~499nm的光量子数所占比例为10~15%,波长为500~599nm的光量子数所占比例为20~30%,波长为600~699nm的光量子数所占比例为40~50%,波长为700~780nm的光量子数所占比例为10~15%。
在本发明的一个优选实施方案中,所述步骤(1)中的基质由泥炭土和蛭石以1∶1的质量比混合而成。
在本发明的一个优选实施方案中,所述步骤(2)至(4)中的湿度为70%。
在本发明的一个优选实施方案中,所述步骤(2)和(3)的光照周期均为24h/d。
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