[发明专利]承载装置和曝光设备

说明书

本发明提供一种承载装置，包括承载台，所述承载台上设置有贯穿该承载台的升降通道，所述升降通道内设置有升降结构，所述升降结构与所述升降通道的内壁之间存在间隔，所述升降结构与所述升降通道的内壁之间还设置有光反射补偿块，所述光反射补偿块的顶面与所述承载台的承载面的光反射率之差、所述光反射补偿块的顶面与所述升降结构的顶面的光反射率之差均不大于预定阈值。相应地，本发明还提供一种曝光设备。本发明能够使得基板上不同位置的光刻胶曝光程度更加均匀。

技术领域

本发明涉及显示装置的生产领域，具体涉及一种承载装置和曝光设备。

背景技术

图1是现有曝光设备中的承载装置的结构示意图，其包括承载台10和升降结构20(例如升降杆或升降针)。曝光过程中，升降结构20下降，基板放置在承载台10上；曝光结束后，升降结构20上升以将基板顶起，从而便于将基板取走。

目前的承载装置中，升降结构20与承载台10之间有一定的缝隙，导致缝隙区域与承载台10表面的反射率不一致，因此，在曝光工艺中，基板不同位置的光刻胶曝光率不均一，从而容易导致产品不良。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种承载装置和曝光设备，以改善基板上不同位置的光刻胶曝光程度不一致的问题。

为了实现上述目的，本发明提供一种承载装置，包括承载台，所述承载台上设置有贯穿该承载台的升降通道，所述升降通道内设置有升降结构，所述升降结构与所述升降通道的内壁之间存在间隔，所述升降结构与所述升降通道的内壁之间还设置有光反射补偿块，所述光反射补偿块的顶面与所述承载台的承载面的光反射率之差、所述光反射补偿块的顶面与所述升降结构的顶面的光反射率之差均不大于预定阈值。

优选地，所述光反射补偿块在水平面上的正投影与所述升降结构在水平面上的正投影的总投影完全覆盖所述升降通道在所述水平面上的正投影。

优选地，所述升降结构顶面的光反射率与所述承载台的承载面的光反射率相等，所述预定阈值为零。

优选地，所述光反射补偿块包括安装本体和设置在该安装本体顶面的反射层，所述反射层的上表面形成为所述光反射补偿块的顶面。

优选地，所述升降结构包括升降部和设置在该升降部顶端的支撑部，所述支撑部为板状结构。

优选地，所述光反射补偿块设置在所述升降通道内壁的顶端处；或者，所述光反射补偿块设置在所述支撑部的侧面；或者，所述光反射补偿块的一部分设置在所述升降通道内壁的顶端、另一部分设置在所述支撑部的侧面；

当所述支撑部的顶面与所述承载台的承载面平齐时，所述支撑部的顶面、所述光反射补偿块的顶面和所述承载台的承载面形成连续的平面。

优选地，所述安装本体包括设置在所述升降通道内壁上的外环体和设置在所述支撑部上、并环绕该支撑部的内环体。

优选地，所述外环体包括与升降通道内壁接触的外表面和背离所述升降通道内壁的内表面，所述内环体包括朝向所述支撑部的内表面和背离所述支撑部的外表面；

沿从所述升降结构的顶端至底端方向，所述内环体的外表面逐渐靠近或阶段式靠近所述支撑部，所述外环体的内表面与所述内环体的外表面相匹配，以使得所述支撑部的顶面与所述承载台的承载面平齐时，所述内环体的外表面与所述外环体的内表面贴合。

优选地，所述光反射补偿块设置在所述升降通道的内壁上，且所述光反射补偿块的位置满足：当所述升降结构的顶部与所述承载台的承载面平齐时，所述光反射补偿块的顶面低于所述支撑部的底面。

优选地，所述安装本体采用柔性材料制成。

相应地，本发明还提供一种曝光设备，包括本发明提供的上述承载装置。