[发明专利]用于军用舰船舰桥玻璃隐身的耐腐蚀防雾薄膜及制备方法

权利要求书

1.一种用于军用舰船舰桥玻璃隐身的耐腐蚀防雾薄膜，其特征在于：所述用于军用舰船舰桥玻璃隐身的耐腐蚀防雾薄膜包括舰桥玻璃基底(0)，所述舰桥玻璃基底(0)上设置有A面和B面，所述A面和B面上分别设置有不同的功能膜系，A面为电加热膜系，B面为隐身膜系；所述电加热膜系由舰桥玻璃基底(0)由内向外依次为电加热功能层和内疏水膜层；所述隐身膜系由舰桥玻璃基底(0)由内向外依次为隐身功能膜层和外疏水膜层。

2.根据权利要求1所述的用于军用舰船舰桥玻璃隐身的耐腐蚀防雾薄膜，其特征在于：所述A面向舰船舰桥玻璃内为内侧，所述B面向舰船舰桥玻璃外为外侧，所述电加热功能层由内向外依次为第一氧化硅层(1-11)、第一氧化铟锡层(1-12)、第一金属金层(1-13)和第二氧化铟锡层(1-14)，所述第一氧化硅层(1-11)的膜层的厚度为12～25nm，所述第一氧化铟锡层(1-12)的膜层的厚度为30～60nm，所述第一金属金层(1-13)的膜层的厚度为8～10nm，所述第二氧化铟锡层(1-14)的膜层的厚度为60～80nm。

3.根据权利要求2所述的用于军用舰船舰桥玻璃隐身的耐腐蚀防雾薄膜，其特征在于：所述内疏水层由内向外依次为第二氧化硅层(1-21)和内聚四氟乙烯层(1-22)，所述第二氧化硅层(1-21)的膜层的厚度为20～30nm，所述内聚四氟乙烯层(1-22)的膜层的厚度为30～65nm。

4.根据权利要求3所述的用于军用舰船舰桥玻璃隐身的耐腐蚀防雾薄膜，其特征在于：所述隐身功能膜层由内向外依次为第三氧化硅层(2-11)、第三氧化铟锡层(2-12)、第二金属金层(2-13)、第四氧化铟锡层(2-14)和金属钛层(2-15)，所述第三氧化硅层(2-11)的膜层的厚度为12～25nm，第三氧化铟锡层(2-12)的膜层的厚度为30～60nm，第二金属金层(2-13)的膜层的厚度为6～10nm，第四氧化铟锡层(2-14)的膜层的厚度为30～60nm，金属钛层(2-15)的膜层的厚度为5～8nm。

5.根据权利要求4所述的用于军用舰船舰桥玻璃隐身的耐腐蚀防雾薄膜，其特征在于：所述外疏水膜层由内向外依次为氮化钛层(2-21)、第四氧化硅层(2-22)和外聚四氟乙烯层(2-23)；所述氮化钛层(2-21)的膜层的厚度为20～50nm，所述第二氧化硅层(2-22)的膜层的厚度为20～30nm，所述外聚四氟乙烯层(2-23)的膜层的厚度为30～65nm。

6.权利要求1至5任一项所述的用于军用舰船舰桥玻璃隐身的耐腐蚀防雾薄膜的制备方法，其特征在于包括如下步骤：

(1)采用平衡或非平衡磁控溅射方式，镀膜设备置于洁净度十万级以内、湿度小于55％的洁净室内，设备冷却水温度在16～26℃；镀膜时本底真空要求：镀膜室真空度<2.5×10^-3Pa、进入室和隔离室真空度<1Pa；

(2)舰桥玻璃基底经清洗机清洗后，依次通过进入室和隔离室，到达镀膜室，进入镀膜室后，关闭隔离室与镀膜室间的隔离阀，抽真空至本底真空，之后通入氩气和相应工艺气体维持真空度在0.4～0.9Pa之间；

(3)待镀膜室腔体内总气压稳定后，将舰桥玻璃基底的A面正对溅射靶面，A面与靶面之间的距离保持在6～20cm，连续开启电源，依次在舰桥玻璃基底的A面上镀制电加热层和内疏水层；

(4)A面镀膜结束后，清洗B面；对B面进行镀膜，重复步骤(1)～(3)，镀膜过程中基底传输速度保持平稳均匀，速度范围为0.8～3m/min，制得用于军用舰船舰桥玻璃隐身的耐腐蚀防雾薄膜。

7.根据权利要求6所述的用于军用舰船舰桥玻璃隐身的耐腐蚀防雾薄膜的制备方法，其特征在于：在步骤(3)中，所述电源为中频电源、直流电源和射频电源。

8.根据权利要求6所述的用于军用舰船舰桥玻璃隐身的耐腐蚀防雾薄膜的制备方法，其特征在于：在步骤(2)和(3)中，镀制A面时工艺气体为氧气，镀制B面时工艺气体为氧气或氮气。

9.根据权利要求6所述的用于军用舰船舰桥玻璃隐身的耐腐蚀防雾薄膜的制备方法，其特征在于：在步骤(3)中，电源采用恒功率的范围为3～40kw或恒电流的范围为3～30A，镀制金属膜层时，恒功率范围为0.3～1.5kw，镀制内聚四氟乙烯层和外聚四氟乙烯膜层均采用射频电源。