[发明专利]用于军用舰船舰桥玻璃隐身的耐腐蚀防雾薄膜及制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及舰桥玻璃隐身薄膜制造技术领域，具体涉及一种用于军用舰船舰桥玻璃隐身的耐腐蚀防雾薄膜及制备方法。

背景技术

水面舰船(特别是未来军用舰船)由于工作环境的不同，长期面临湿度高、盐分含量大等特殊环境，其舰桥玻璃应包含四方面需求：一是应适应现代化舰船对雷达隐身的性能要求，提高舰船生存能力，二是应可解决舰桥玻璃的耐腐蚀性能、延长寿命的需求，三是应可解决执行任务时舰船玻璃的防雾、易清洁问题，提高舰桥工作视觉舒适度，改善工作环境，四是应保证足够的可见光透过率，保证工作视觉需求。

在舰船实现了基本的外形隐身后，为进一步提高雷达隐身性能，有必要对舰船的舰桥玻璃进行特殊处理，以屏蔽雷达波的腔体散射，提高隐身性能，在玻璃外侧涂覆隐身膜层，同时满足采光需求，成为迫切需求；同时，舰船长期工作于外海、内陆河等高湿气环境下，特别是湿盐环境，采用常规薄膜实现以上功能时，往往会带来较低的寿命周期，因此，有必要提高薄膜的耐腐蚀性能，并提高薄膜使用寿命；在正常工作环境下，由于湿气较大，温度变化时，容易在玻璃内侧结雾或结露，严重影响工作状态，同时，雾和露的出现，会对薄膜造成一定威胁，因此，结合使用状态，同时采用电加热膜层和疏水膜层实现防雾功能，同时疏水膜层的使用，大大提高了易清洁性，并满足视野要求和舱内采光需求；当然以上的需求提高，必须满足高的透光率。同时，基于以上膜层的设计，也可以在一定程度上对红外线、紫外线进行选择性透过，实现节能需求，高紫外反射性能可以提高舰桥内电子设备的寿命。

目前，缺乏一种具有隐身性能好的用于军用舰船舰桥玻璃隐身的耐腐蚀防雾薄膜及制备方法。

发明内容

本发明的目的是针对上述问题，提供一种具有隐身性能好的用于军用舰船舰桥玻璃隐身的耐腐蚀防雾薄膜及制备方法。

为达到上述目的，本发明采用了下列技术方案：本发明的一种用于军用舰船舰桥玻璃隐身的耐腐蚀防雾薄膜，所述用于军用舰船舰桥玻璃隐身的耐腐蚀防雾薄膜包括舰桥玻璃基底，所述舰桥玻璃基底上设置有A面和B面，所述A面和B面上分别设置有不同的功能膜系，A面为电加热膜系，B面为隐身膜系；所述电加热膜系由舰桥玻璃基底由内向外依次为电加热功能层和内疏水膜层；所述隐身膜系由舰桥玻璃基底由内向外依次为隐身功能膜层和外疏水膜层。

进一步地，所述A面向舰船舰桥玻璃内为内侧，所述B面向舰船舰桥玻璃外为外侧，所述电加热功能层由内向外依次为第一氧化硅层、第一氧化铟锡层、第一金属金层和第二氧化铟锡层，所述第一氧化硅层的膜层的厚度为12～25nm，所述第一氧化铟锡层的膜层的厚度为30～60nm，所述第一金属金层的膜层的厚度为8～10nm，所述第二氧化铟锡层的膜层的厚度为60～80nm。

进一步地，所述内疏水层由内向外依次为第二氧化硅层和内聚四氟乙烯层，所述第二氧化硅层的膜层的厚度为20～30nm，所述内聚四氟乙烯层的膜层的厚度为30～65nm。

更进一步地，所述隐身功能膜层由内向外依次为第三氧化硅层、第三氧化铟锡层、第二金属金层、第四氧化铟锡层和金属钛层，所述第三氧化硅层的膜层的厚度为12～25nm，第三氧化铟锡层的膜层的厚度为30～60nm，第二金属金层的膜层的厚度为6～10nm，第四氧化铟锡层的膜层的厚度为30～60nm，金属钛层的膜层的厚度为5～8nm。

进一步地，所述外疏水膜层由内向外依次为氮化钛层、第四氧化硅层和外聚四氟乙烯层；所述氮化钛层的膜层的厚度为20～50nm，所述第二氧化硅层的膜层的厚度为20～30nm，所述外聚四氟乙烯层的膜层的厚度为30～65nm。

本发明所述的用于军用舰船舰桥玻璃隐身的耐腐蚀防雾薄膜的制备方法，包括如下步骤：

(1)采用平衡或非平衡磁控溅射方式，镀膜设备置于洁净度十万级以内、湿度小于55％的洁净室内，设备冷却水温度在16～26℃；镀膜时本底真空要求：镀膜室真空度<2.5×10^-3Pa、进入室和隔离室真空度<1Pa；

(2)舰桥玻璃基底经清洗机清洗后，依次通过进入室和隔离室，到达镀膜室，进入镀膜室后，关闭隔离室与镀膜室间的隔离阀，抽真空至本底真空，之后通入氩气和相应工艺气体维持真空度在0.4～0.9Pa之间；

(3)待镀膜室腔体内总气压稳定后，将舰桥玻璃基底的A面正对溅射靶面，A面与靶面之间的距离保持在6～20cm，连续开启电源，依次在舰桥玻璃基底的A面上镀制电加热层和内疏水层；