[发明专利]辅助曝光装置

权利要求书

1.一种辅助曝光装置，其特征在于：

配置在对被处理基板进行曝光处理的曝光装置的前级侧或者后级侧，对所述被处理基板进行局部曝光处理，

所述辅助曝光装置包括：

搬送部，该搬送部将所述被处理基板在扫描方向上搬送；和

光源单元，该光源单元对在所述扫描方向上被搬送的所述被处理基板，照射以与所述扫描方向交叉的方向为长边方向的线状的光，

所述光源单元包含：将多个可动式微反射镜排列而成的数字微反射镜器件；和投射透镜，该投射透镜被配置在所述数字微反射镜器件和所述被处理基板间的光路上，将由所述数字微反射镜器件反射后的光呈所述线状扩大投射到所述被处理基板上，

与设定在所述被处理基板上的多个单位区域中的、位于所述被处理基板的中央的单位区域对应的所述可动式微反射镜的数量，多于与位于所述被处理基板的端部的单位区域对应的所述可动式微反射镜的数量。

2.如权利要求1所述的辅助曝光装置，其特征在于：

所述辅助曝光装置被配置在所述曝光装置的后级侧且配置在对于曝光后的所述被处理基板进行显影处理的显影装置的前级。

3.如权利要求1或2所述的辅助曝光装置，其特征在于：

包括单一的所述光源单元。

4.如权利要求3所述的辅助曝光装置，其特征在于：

包括控制部，该控制部基于显影处理后的被处理基板上的膜厚和线宽度中的至少一个的测定结果和将所述多个可动式微反射镜均匀控制的情况下的所述线状的光的照度分布，控制所述可动式微反射镜的动作。