[发明专利]辅助曝光装置有效

申请号：	201710149843.1	申请日：	2017-03-14
公开（公告）号：	CN107193185B	公开（公告）日：	2021-01-12
发明（设计）人：	佐竹顺;太田义治	申请（专利权）人：	东京毅力科创株式会社
主分类号：	G03F7/20	分类号：	G03F7/20
代理公司：	北京尚诚知识产权代理有限公司 11322	代理人：	龙淳
地址：	日本***	国省代码：	暂无信息
权利要求书：	查看更多	说明书：	查看更多
摘要：
搜索关键词：	辅助曝光装置
钻瓜网技术展会专利词库专利权人专利榜在售专利公布日期热门专利

【说明书】：

本发明提供一种能够提高曝光解像度的辅助曝光装置。本实施方式的辅助曝光装置配置在对被处理基板进行曝光处理的曝光装置的前级侧或者后级侧，对被处理基板进行局部曝光处理，包括搬送部和光源单元。搬送部将被处理基板在扫描方向上搬送。光源单元对在扫描方向上被搬送的被处理基板，照射以与扫描方向交叉的方向为长边方向的线状的光。另外，光源单元构成为包含将多个可动式微反射镜排列而成的数字微反射镜器件。

技术领域

本发明涉及的实施方式涉及辅助曝光装置。

背景技术

当前，对涂敷在被处理基板上的抗蚀剂膜，已知有与例如转印掩模的图案的通常的曝光装置不同的，进行局部的曝光处理的辅助曝光装置。根据该辅助曝光装置，能够提高光光刻中的显影处理后的抗蚀剂图案的膜厚、线宽度的均匀性。

例如，专利文献1公开的辅助曝光装置具有将多个LED(Light Emitting Diode)元件排列为线状的光源单元。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2013-186191号公报

发明内容

发明想要解决的技术问题

但是，使用LED元件的情况的曝光解像度受到LED元件主体的尺寸(例如5mm左右)的制约。因此，在上述现有技术中，在提高曝光解像度的方面具有进一步改善的余地。实施方式的一个方式的目的在于提供能够提高曝光解像度的辅助曝光装置。

用于解决技术问题的技术方案

实施方式的一个方式所涉及的辅助曝光装置配置在对被处理基板进行曝光处理的曝光装置的前级侧或者后级侧，对被处理基板进行局部曝光处理，包括搬送部和光源单元。搬送部将被处理基板在扫描方向上搬送。光源单元对在扫描方向上被搬送的被处理基板，照射以与扫描方向交叉的方向为长边方向的线状的光。另外，光源单元构成为包含将多个可动式微反射镜排列而成的数字微反射镜器件。

发明效果

根据实施方式的一个方式，能够提高曝光解像度。

附图说明

图1是表示实施方式所涉及的基板处理系统的构成的图。

图2是表示对基板处理系统中的1个玻璃基板的全部工序的处理顺序的流程图。

图3A是表示在实施方式中将玻璃基板上的产品区域分区为矩阵状的格式的图。

图3B是表示在玻璃基板上的矩阵分区的各单位区域的每一个中对抗蚀剂图案的膜厚、线宽度的测定值进行演算并制图的结构的图。

图3C是表示在玻璃基板上的矩阵分区的各单位区域的每一个中对補正曝光量进行演算并制图的结构的图。

图3D是表示在玻璃基板上的矩阵分区的各单位区域的每一个中对照度的目标值进行演算并制图的结构的图。

图4是表示实施方式所涉及的辅助曝光装置的构成的图。

图5是表示从光源单元照射的紫外线的照射区域的图。

图6是表示光源单元的构成的图。