[发明专利]具有薄膜图案的基板及形成薄膜图案于基板的方法

权利要求书

1.一种形成薄膜图案于基板的方法，其特征在于，包含以下步骤：

于一基板上形成一基底色层；

于具有该基底色层的该基板上形成一掀离光阻层；

以一光罩贴合于该基板上，该光罩具有一薄膜图案结构；

曝光；

移除未被曝光的该掀离光阻层，并形成一图案空间；

移除该掀离光阻层所构成的该图案空间下方的该基底色层；

于具有该图案空间的该基板上形成至少一薄膜层，该至少一薄膜层覆盖该图案空间暴露出的该基板与该掀离光阻层；及

掀离该掀离光阻层以形成一薄膜图案，使该薄膜图案与未被移除的该基底色层形成相邻接的无缝紧密结构。

2.根据权利要求1所述的形成薄膜图案于基板的方法，其特征在于，其中该至少一薄膜层选自以下的任意组合：一金属薄膜层、一无机金属氧化物薄膜层、一非金属氧化物薄膜层以及一非金属薄膜层。

3.根据权利要求1所述的形成薄膜图案于基板的方法，其特征在于，其中该基板为一平面基板或一立体基板。

4.根据权利要求1所述的形成薄膜图案于基板的方法，其特征在于，其中该基底色层为一金属薄膜层、一无机金属氧化物薄膜层、一非金属氧化物薄膜层或一非金属薄膜层。

5.根据权利要求1所述的形成薄膜图案于基板的方法，其特征在于，其中形成该薄膜层的方法运用溅镀法、蒸镀法或喷涂法。

6.一种形成薄膜图案于基板的方法，其特征在于，包含以下步骤：

于一基板上形成一基底光阻层；

于具有该基底光阻层的该基板上形成一掀离光阻层；

以一光罩贴合于该基板上，该光罩具有一薄膜图案结构；

曝光；

一次移除未被曝光的该掀离光阻层与该基底光阻层，并形成一图案空间；

于具有该图案空间的该基板上形成至少一薄膜层，该至少一薄膜层覆盖该图案空间暴露出的该基板与该掀离光阻层；及

掀离该掀离光阻层以形成一薄膜图案，使该薄膜图案与未被移除的该基底光阻层形成相邻接的无缝紧密结构。

7.根据权利要求6所述的形成薄膜图案于基板的方法，其特征在于，其中该至少一薄膜层选自以下的任意组合：一金属薄膜层、一无机金属氧化物薄膜层、一非金属氧化物薄膜层以及一非金属薄膜层。

8.根据权利要求6所述的形成薄膜图案于基板的方法，其特征在于，其中该基板为一平面基板或一立体基板。

9.根据权利要求6所述的形成薄膜图案于基板的方法，其特征在于，其中该基板为一立体基板，且该薄膜图案形成于该立体基板的立体部位。

10.一种运用权利要求1的形成薄膜图案于基板的方法所制作的具有薄膜图案的基板，其特征在于，包含：

一基板；

至少一薄膜图案层，配置于该基板上；及

一周边图案层，配置于该基板上，无缝地环绕于该薄膜图案层。

11.根据权利要求10所述的具有薄膜图案的基板，其特征在于，该基板为一平面基板或一立体基板。

12.根据权利要求10所述的具有薄膜图案的基板，其特征在于，其中该基板为一立体基板，且该薄膜图案配置于该立体基板的立体部位。

13.根据权利要求10所述的具有薄膜图案的基板，其特征在于，其中该至少一薄膜层选自以下任意组合：一金属薄膜层、一无机金属氧化物薄膜层、一非金属氧化物薄膜层以及一非金属薄膜层。

14.根据权利要求10所述的具有薄膜图案的基板，其特征在于，其中该周边图案层为一基底光阻层，或为一金属薄膜层、一无机金属氧化物薄膜层、一非金属氧化物薄膜层或一非金属薄膜层。