[发明专利]一种镁合金表面耐蚀涂层制备方法在审

专利信息
申请号: 201710164755.9 申请日: 2017-03-20
公开(公告)号: CN107164744A 公开(公告)日: 2017-09-15
发明(设计)人: 罗岚;刘勇;王雨;郭锐;丁岩 申请(专利权)人: 南昌大学
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455
代理公司: 南昌新天下专利商标代理有限公司36115 代理人: 施秀瑾
地址: 330031 江西省*** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 一种 镁合金 表面 涂层 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种镁合金表面耐蚀涂层制备方法,其特征是包括以下步骤:

(1)镁合金除氢:控制气氛炉炉温160~200℃,保温1~2小时;

(2)ALD工作腔准备:确认供气压力,干燥空气气瓶压力为0.45~0.55MPa,反应气源气瓶压力为0.2MPa;设置加热器、腔体、吹扫、热阱温度分别为100℃、100℃、100℃、300℃,开启真空泵、流量计;待温度稳定,关闭加热器、真空泵、空气流量计,充气至压力为760torr;打开工作腔体,放入镁合金试样,关闭腔门,开启真空泵;

(3)ALD制备耐蚀涂层:耐蚀层为任一氧化物、任一氮化物薄膜;薄膜制备过程涉及两种反应气源,其过程为:根据薄膜种类,设置加热器温度、吹扫温度、热阱温度、泵管温度、工艺压力;进入配方页面,设置各气源注气/吹扫时间,气源注气的顺序及总循环次数;第一种反应气源注气,在镁合金表面物理吸附,吹扫未被吸附第一种气体;第二种反应气源注气在镁合金表面,与第一反应气源进行化学反应,吹扫未被吸附第二种气体;其吸附过程和反应过程均具有自限性,以保证薄膜化学组分的分子尺度的精确性;薄膜的厚度是通过循环次数控制,单次循环薄膜厚度一般增加0.05~0.1nm,以保证薄膜整体厚度的纳米级精确性;

(4)ALD工作腔还原:关闭反应气源,设置加热器、腔体、吹扫、热阱温度分别为100℃、100℃、100℃、300℃;待温度稳定,关闭真空泵、流量计、加热器,充气至压力为760torr;打开工作腔体,取出镁合金试样,关闭腔门。

2.根据权利要求1所述的一种镁合金表面耐蚀涂层制备方法,其特征是步骤(3)中所述的氧化物为Al2O3、TiO2或HfO2

3.根据权利要求1所述的一种镁合金表面耐蚀涂层制备方法,其特征是步骤(3)中所述的氮化物为InN、AlN或GaN。

4.根据权利要求1所述的一种镁合金表面耐蚀涂层制备方法,其特征是步骤(3)中单层薄膜之上可逐次叠积制备多层薄膜,形成复合层。

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