[发明专利]一种镁合金表面耐蚀涂层制备方法在审
申请号: | 201710164755.9 | 申请日: | 2017-03-20 |
公开(公告)号: | CN107164744A | 公开(公告)日: | 2017-09-15 |
发明(设计)人: | 罗岚;刘勇;王雨;郭锐;丁岩 | 申请(专利权)人: | 南昌大学 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 南昌新天下专利商标代理有限公司36115 | 代理人: | 施秀瑾 |
地址: | 330031 江西省*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 镁合金 表面 涂层 制备 方法 | ||
技术领域
本发明属于镁合金表面改性处理技术,特别涉及镁合金的表面耐蚀涂层制备。
背景技术
镁合金是实际应用中最轻的金属结构材料,具有高比强、高比模和易回收等优点,被誉为“21 世纪绿色工程材料”。随着很多金属矿产资源的日益枯竭,镁以其资源丰富而日益受到重视,特别是我国目前对结构轻量化要求较高的大飞机、绕月、高速轨道交通、电动汽车等大型工程项目的启动,对镁合金有更大的需求。随着我国镁合金研究的不断深入,在镁合金合金化设计、塑性变形等技术研究方面取得了长足的进步。但镁在金属结构材料中具有最低的标准电极电位,而且其氧化膜疏松多孔,氧化膜的PBR比为 0.81,不能形成有效的稳定保护膜,在大多数腐蚀性环境下容易出现电偶腐蚀、环境腐蚀等腐蚀问题,不能持续使用。提高镁合金的耐蚀性已成为镁合金广泛应用必须解决的关键问题。
将镁合金与腐蚀介质隔绝,表面涂覆致密、化学惰性、且与镁合金结合性良好的耐蚀涂层是提高镁合金耐蚀性能的最有效途径之一。目前耐蚀涂层主要有有机涂层、耐蚀金属涂层以及化合物涂层等。有机涂层采用的主要工艺有涂漆、静电喷涂、电泳等[Hu R G, Zhang S, Bu J F, et al. Progress in Organic Coatings, 2012,73:129-141],金属和化合物涂层采用的主要技术为电/化学镀[Liu J J, Wang X D, et al. Applied surface science, 2015, 356: 289-293]、冷喷涂[Xiong Y M, Zhang M X. Surface &Coatings Technology, 2014, 253: 89-95]、溅射[李忠厚,郭腾腾,宫学博, 等. 表面技术,2014, 43( 6) :121-124]、高能束流表面熔覆等技术[Zhu R D, Li Z Y, et al. Applied Surface Science, 2015, 353: 405-413]。上述镀膜技术一般只能适应一种或几种耐蚀涂层的制备,适应耐蚀涂层材料种类有限;且普遍存在涂层的厚度均匀性、组分控制精确性、致密性、与镁合金基体的结合性、工业适应性问题;且难以生成三维性耐蚀层或台阶覆盖。
发明内容
本发明的目的是提出一种镁合金表面耐蚀涂层制备方法。采用原子层外延技术(atomic layer deposition, ALD),利用制备过程的自限性(吸附自限性和反应自限性),在镁合金表面制备厚度均匀性好、组分控制精确、致密性好、与镁合金基体的结合性强的各类氧化物、氮化物、复合耐蚀涂层。制备中,能在任意形状表面制备涂层,且温度是唯一的工艺参数,易控制和工艺稳定性好。
本发明是通过以下技术方案实现。
本发明所述的一种镁合金表面耐蚀涂层制备方法,包括以下步骤。
(1)镁合金除氢:控制气氛炉炉温160~200℃,保温1~2小时。
(2)ALD工作腔准备:确认供气压力,干燥空气气瓶压力为0.45~0.55MPa,反应气源气瓶压力为0.2MPa;设置加热器、腔体、吹扫、热阱温度分别为100℃、100℃、100℃、300℃,开启真空泵、流量计;待温度稳定,关闭加热器、真空泵、空气流量计,充气至压力为760torr;打开工作腔体,放入镁合金试样,关闭腔门,开启真空泵。
(3)ALD制备耐蚀涂层:耐蚀层可以是任一氧化物、任一氮化物薄膜。薄膜制备过程一般涉及两种反应气源,其过程为:根据薄膜种类,设置加热器温度、吹扫温度、热阱温度、泵管温度、工艺压力;进入配方页面,设置各气源注气/吹扫时间,气源注气的顺序及总循环次数。第一种反应气源注气,在镁合金表面物理吸附,吹扫未被吸附第一种气体;第二种反应气源注气在镁合金表面,与第一反应气源进行化学反应,吹扫未被吸附第二种气体;其吸附过程和反应过程均具有自限性,以保证薄膜化学组分的分子尺度的精确性。薄膜的厚度是通过循环次数控制,单次循环薄膜厚度一般增加0.05~0.1nm,以保证薄膜整体厚度的纳米级精确性。
所述的氧化物为Al2O3、TiO2、HfO2等。
所述的氮化物为InN、AlN、GaN等。
本发明单层薄膜之上还可以逐次叠积制备多层薄膜,形成复合层。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的