[发明专利]一种处理滤膜得到校准尘膜的方法以及一种由校准尘膜进行场外校准的方法

权利要求书

1.一种处理滤膜得到校准尘膜的方法，包含以下步骤：

(1)对基体滤膜进行基础筛选，得到待测空白基体滤膜；

所述基础筛选的标准为：

①孔径和厚度：孔径≤2μm，厚度为0.2～0.25mm；

②截留效率：作为PM10采样滤膜时，对0.3μm颗粒物的截留效率≥99％；作为PM2.5采样滤膜时，对0.3μm颗粒物的截留效率≥99.7％；

③最大压降：在0.45m/s的洁净空气流速时，压降≤3KPa；

④最大吸湿性：暴露在湿度为40％RH的空气中24h后与暴露在湿度为35％RH的空气中24h后的质量增加值≤10μg；

⑤重量稳定性：坠落测试平均质量变化≤20μg，温度测试平均质量变化≤20μg；

(2)以β射线法颗粒物分析仪外部膜片测量功能，测量不放置滤膜状态下的初始β射线强度，记为I；将所述待测空白基体滤膜放置在膜托上，将所述膜托按照一定角度等分为多个点位；对不同点位的β射线强度值进行测量，记为Iⁿ，得到不同点位的ln(I/Iⁿ)值；所述n为不同点位的标号；

依据得到的待测空白基体滤膜的ln(I/Iⁿ)值进行稳定性筛选：同一张待测空白基体滤膜不同点位ln(I/Iⁿ)值的变异系数CV≤0.20％的滤膜为一级稳定基体滤膜；

分别将每张一级稳定基体滤膜中不同点位的ln(I/Iⁿ)值取均值，得到每张一级稳定基本滤膜的ln(I/Iⁿ)均值，根据所述ln(I/Iⁿ)均值筛选出至少10张ln(I/Iⁿ)均值的变异系数CV≤0.25％的二级稳定基体滤膜；

(3)对所述步骤(2)筛选到的二级稳定基体滤膜进行称重；

(4)保留至少1张二级稳定基体滤膜作为空白对照滤膜；将剩余二级稳定基体滤膜至少分成三组，每组至少包含3张滤膜作为实验滤膜用于采集校准尘；

将得到的附着有校准尘的二级稳定基体滤膜进行称重，得到滤膜采样前后的质量差，计算得到PM质量浓度；

(5)以β射线法颗粒物分析仪外部膜片测量功能，测量不放置滤膜状态下的初始β射线强度，记为I′；将所述附着有校准尘的二级稳定基体滤膜放置在膜托上，根据所述步骤(2)中的点位设置对不同点位的β射线强度值进行测量，记为I′ⁿ，得到不同点位的ln(I′/I′ⁿ)值；所述n为不同点位的标号；

筛选同一张附着有校准尘的二级稳定基体滤膜的不同点位ln(I′/I′ⁿ)值的变异系数CV≤0.20％的滤膜为校准尘膜。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基体滤膜为纤维素滤膜、玻璃纤维滤膜、石英纤维滤膜、聚四氟乙烯滤膜或聚碳酸酯滤膜。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述基体滤膜为石英纤维滤膜时，对所述石英纤维滤膜进行烘焙处理。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述烘焙的温度为800～900℃；

所述烘焙的时间为30～90分钟。

5.根据权利要求1～4任意一项所述的方法，其特征在于，所述重量稳定性的测试方法为：

取不少于各批次滤膜总数的0.1％的滤膜，在平衡稳定后称量，记录滤膜质量；

将平衡称重后的滤膜放入滤膜夹，将该滤膜夹从25cm高处自由坠落到平整的硬表面，重复上述操作2次；从滤膜夹中取出测试滤膜，对其称量并记录质量值，坠落测试前后的平均质量变化≤20μg；

将平衡称重后的滤膜在40±2℃下干燥48h后重新进行平衡称量，测试前后的平均质量变化≤20μg。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述平衡稳定的温度为15～30℃；

所述平衡稳定时的相对湿度为45～55％；

所述平衡稳定的时间为20～30小时。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述一定角度为90°、60°、45°、30°或20°。