[发明专利]图案修正方法、光掩模及其制造方法以及修正膜形成装置

权利要求书

1.一种图案修正方法，在该图案修正方法中，对于在基板的主表面上形成有转印用图案的光掩模的所述转印用图案形成修正膜，其特征在于，所述图案修正方法具有：

确定形成所述修正膜的对象区域的区域确定工序；和

在原料气体的气氛中在所述对象区域内照射激光而形成所述修正膜的成膜工序，

在所述成膜工序中，通过在所述对象区域内照射从激光振荡器射出的激光而形成规定尺寸的单位修正膜，并且，

在所述对象区域内，通过使多个所述单位修正膜各自的一部分彼此重合来形成具有规定膜厚的修正膜，

所述转印用图案包含透过曝光光的一部分的半透光部，所述对象区域包含至少一部分所述半透光部，

所述单位修正膜的尺寸小于形成所述修正膜的所述对象区域的尺寸。

2.根据权利要求1所述的图案修正方法，其特征在于，

在所述成膜工序中，在所述对象区域内照射从激光振荡器射出并通过了规定尺寸的光圈后的激光而在所述基板上形成照射光斑，由此形成规定尺寸的单位修正膜，并且，在所述对象区域内，通过使所述照射光斑移动并使多个所述单位修正膜各自的一部分彼此重合而形成具有规定膜厚的修正膜。

3.根据权利要求2所述的图案修正方法，其特征在于，

所述照射光斑的重合是彼此垂直的两个方向的重合。

4.根据权利要求2或3所述的图案修正方法，其特征在于，

当设所述照射光斑的重合方向为X方向时，所述照射光斑的所述X方向上的尺寸SX为0.5≤SX＜3.0，其中SX的单位是μm。

5.根据权利要求2或3所述的图案修正方法，其特征在于，

当设所述照射光斑的重合方向为X方向时，相对于所述照射光斑的所述X方向上的尺寸SX，所述照射光斑的所述X方向上的重合间距PX为0.5SX≤PX≤0.9SX。

6.根据权利要求2或3所述的图案修正方法，其特征在于，

当设所述照射光斑的重合方向为X方向时，所述照射光斑的所述X方向上的重合宽度WX为0.2≤WX≤1.5，其中WX的单位为μm。

7.根据权利要求2或3所述的图案修正方法，其特征在于，

所述照射光斑是使从所述激光振荡器射出的激光振动而通过所述光圈照射到所述光掩模的对象区域而形成的。

8.根据权利要求2或3所述的图案修正方法，其特征在于，

所述光圈的形状是正方形。

9.一种光掩模的制造方法，该光掩模的制造方法包含：

在基板的主表面上准备至少具有半透光膜的光掩模坯的工序；

对所述半透光膜进行构图而形成具有转印用图案的光掩模的工序；以及

对所述转印用图案进行修正的修正工序，其特征在于，

在所述修正工序中，应用权利要求1、2和3中的任一项所述的图案修正方法来修正所述转印用图案。

10.一种光掩模，该光掩模具有利用修正膜对在基板的主表面上形成的转印用图案的一部分进行修正而得的修正转印用图案，其特征在于，

所述转印用图案包含半透光部，该半透光部是在所述基板上形成半透光膜而成的，

所述修正转印用图案具有修正膜部分，在该修正膜部分中，多个单位修正膜以彼此部分重合的状态规则地排列，所述多个单位修正膜由尺寸小于所述光掩模的曝光条件下的分辨率极限尺寸的CVD膜构成。

11.根据权利要求10所述的光掩模，其特征在于，

所述单位修正膜在彼此垂直的两个方向上重合而排列。