[发明专利]图案修正方法、光掩模及其制造方法以及修正膜形成装置

说明书

本发明提供图案修正方法、光掩模及其制造方法以及修正膜形成装置。提供一种技术，在利用激光CVD法修正在光掩模的转印用图案中产生的缺陷时，能够利用比以往更抑制了透过率分布的偏差的修正膜来修正转印用图案的缺陷。图案修正方法是对于在基板的主表面上形成有转印用图案的光掩模的转印用图案形成修正膜的方法，其具有：确定形成修正膜的对象区域的区域确定工序；和在原料气体的气氛中在对象区域内照射激光而形成修正膜的成膜工序，在成膜工序中，通过在对象区域内照射从激光振荡器射出的激光而形成规定尺寸的单位修正膜，并且，在对象区域内使多个单位修正膜各自的一部分彼此重合来形成具有规定膜厚的修正膜。

技术领域

本发明涉及光掩模的转印用图案的修正，特别涉及适用于以液晶显示装置或有机EL(电致发光)显示装置为代表的显示装置的制造中有用的光掩模所具有的转印用图案的修正的优选图案修正方法、光掩模的制造方法、光掩模以及修正膜形成装置。

背景技术

已知在具有包含半透光部的转印用图案的光掩模中，当转印用图案的半透光部产生缺陷时，要对其进行修正(repair)。例如，在专利文献1中记述有如下内容：当由半透光膜形成的半透光部产生缺陷时，作为用于修正该缺陷的修正膜，在比中心部靠周缘侧的部分形成具有曝光光的透过量较大的区域的修正膜。此外，在专利文献2还记述有应用于光掩模上的中间色调区域的白缺陷部分的修正的修正装置和方法。

在先技术文献

日本特开2008-256759号公报

日本特开2010-210919号公报

在显示装置的制造中，多利用具有基于要获得的器件的设计的转印用图案的光掩模。对于搭载有智能手机或平板终端等器件的液晶显示装置及有机EL显示装置，不仅要求明亮、省电、动作速度快，还要求高分辨率、宽视角等高画质。因此，存在对于光掩模具有的转印用图案强烈要求更加微细化、高密度化的倾向。

作为形成于光掩模中的转印用图案，有如下转印用图案，该转印用图案除了具有透过曝光光的透光部和遮蔽曝光光的遮光部之外，还具有透过曝光光的一部分的半透光部。作为具有这种转印用图案的光掩模，已知有例如在要获得的器件的制造过程中能够进行多次蚀刻工艺的多色调光掩模。

此外，在应用于液晶显示装置的彩色滤光片方面，作为用于获得触摸面板的操作性的感光性间隔物(photo spacer)，除了设置主间隔物外还设置副间隔物，或者，在黑底上配置感光性间隔物以实现更明亮的显示画面等，从而实现明亮度的提高和省电。在制造这样的产品的情况下，也使用多色调光掩模来获得感光性树脂的立体形状，由此能够实现生产的效率化以及低成本化。

作为多色调光掩模具有的半透光部，可以在透明基板上形成对于曝光光具有规定的透过率的半透光膜，将该半透光膜的一部分用作为半透光部。作为这种半透光部，可以应用曝光光相对于透光部的相移量较小的(例如大于0且90度以下)光学特性的半透光膜。如下方法对于高精细的构图也是优选的：使应用于半透光部的半透光膜具有规定的光透过率和相移作用(例如相移量为180度±30度)，并提高转印该半透光膜时的透过光强度分布的对比度或焦深。用于这种光掩模的相移膜也是对于曝光光具有规定的透过率的半透光膜。

当在由这种半透光膜形成的转印用图案中的半透光膜的一部分产生黑缺陷或白缺陷时，需要对缺陷进行修正(修理)。该情况下，例如，当在半透光膜的一部分产生白缺陷时，通过在半透光膜的欠缺部分堆积修正膜来修正白缺陷。此外，当在半透光膜的一部分产生黑缺陷时，通过去除半透光膜或附着物并根据需要堆积新的修正膜来修正黑缺陷。但是，不管哪种情况都需要注意已经形成的正常的部分的半透光膜(以下称作“正常膜”)的光学特性与在修正工序中局部形成的修正膜的光学特性的匹配。这是因为：如果修正膜的光学性质或作用与正常部分的半透光膜不同的话，在某些情况下，存在产生新的白缺陷或黑缺陷的风险。特别是，正常膜与修正膜的光透过率的匹配很重要。