[发明专利]一种硅片翻转冲洗装置

说明书

技术领域

本发明涉及机械技术领域，具体为一种硅片翻转冲洗装置。

背景技术

随着大规模集成电路的发展、集成电路的集成度不断提高、线宽不断减小，集成电路对硅片表面的洁净度、表面化学态、氧化膜厚度的要求也越来越高。半导体器件生产中的硅片必须经严格清洗，否则即使微量污染也会导致器件失效。

清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括无机物和有机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染物包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染物包括重金属金、铜、铁、铬等，严重影响少数载流子寿命和表面电导；碱金属和钠等会引起严重漏电。颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、有机胶体纤维等会导致各种缺陷。

现有的硅片冲洗装置在清洗过程中硅片表面水喷淋不均匀，导致硅片表面有大量的药液残留，清洗效果不佳，工作效率低，用水量大，并且清洗后还需要取出烘干，浪费时间。

发明内容

本发明的目的在于提供一种硅片翻转冲洗装置，以解决上述背景技术中提出的喷淋不均匀，导致硅片表面有大量的药液残留，清洗效果不佳，工作效率低，用水量大，并且清洗后还需要取出烘干，浪费时间的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种硅片翻转冲洗装置，包括冲洗箱、冲洗箱门、电动机箱、控制面板、冲洗箱门锁扣、电动机、传动带、支撑架、集水箱、出水口、二号转轴、清洗液箱、抽水管、喷水管、一号转轴、喷气盒、热风机、喷嘴和水泵，所述冲洗箱上设置有一个冲洗箱门，所述冲洗箱的一侧设置有一个电动机箱，所述电动机箱的外侧安装有一个控制面板，所述冲洗箱门上设置有一个冲洗箱门锁扣，所述电动机箱内安装有一个电动机，所述电动机的一侧设置有一根二号转轴，所述电动机箱的底部安装有两根支撑架，所述冲洗箱的底部设置有一个出水口，所述出水口的底部设置有一个集水箱，所述冲洗箱的另一侧设置有一个清洗液箱，所述清洗液箱的底部安装有两根支撑架，所述抽水管的一侧嵌入清洗液箱内部，所述抽水管的另一侧与水泵连接，所述喷水管的一侧与水泵连接，所述喷水管的另一侧嵌入到冲洗箱内部，且喷水管的另一侧管壁上设置有若干个喷嘴，所述冲洗箱内部还安装有一个一号转轴，所述一号转轴和二号转轴通过传动带传动连接，所述冲洗箱的顶部安装有一个热风机，所述热风机通过管道与冲洗箱顶部内侧的喷气盒连接。

优选的，所述冲洗箱的底部为一个漏斗状结构。

优选的，所述清洗液箱上设置有一个观察窗。

优选的，所述一号转轴和二号转轴上设置有夹子。

优选的，所述喷气盒的底部设置有若干个透气小孔。

优选的，所述集水箱为可移动装置，底部安装有四个万向轮。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：该硅片翻转冲洗装置设有两个转轴，可以安装更多的硅片，并且清洗箱内部的喷头分布较均匀，清洗效果较好，工作效率高，用水量少，清洗箱顶部还安装有一个热风机，热风机和清洗箱内部的喷气盒连接，喷气盒上设置有若干个小孔，喷气范围较广，烘干效果较好，使用方便，设计较为人性化。

附图说明

图1为本发明结构示意图；

图2为本发明冲洗箱俯视结构示意图；

图3为本发明喷气盒俯视结构示意图。

图中：冲洗箱-1；冲洗箱门-2；电动机箱-3；控制面板-4；冲洗箱门锁扣-5；电动机-6；传动带-7；支撑架-8；集水箱-9；出水口-10；二号转轴-11；清洗液箱-12；抽水管-13；喷水管-14；一号转轴-15；喷气盒-16；热风机-17；喷嘴-18；水泵-19。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。