[发明专利]基板处理装置、气体供给方法、基板处理方法和成膜方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，具有：

处理容器，其能够收纳基板；

第一气体供给管，其设置在所述处理容器的上游侧；

排气管，其设置在所述处理容器的下游侧，并且用于将该处理容器内进行排气；

压力检测单元，其测定该处理容器内的压力；

排气侧阀，其设置于所述排气管；

气体贮存罐，其经由所述第一气体供给管而与所述处理容器连接；

气体量测定单元，其测定该气体贮存罐中贮存的气体的量；

控制阀，其设置于所述第一气体供给管，该控制阀能够改变阀开度，以控制从所述气体贮存罐向所述处理容器供给的气体的流路面积；以及

控制部，其用于在从所述气体贮存罐向所述处理容器供给气体时，基于由所述压力检测单元检测出的所述处理容器内的压力对所述控制阀的阀开度进行反馈控制，以使得所述处理容器内的压力成为规定的固定压力。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述压力检测单元设置于所述排气管的所述处理容器与所述排气侧阀之间的位置。

3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

还具有与所述气体贮存罐连接的第二气体供给管，

所述气体量测定单元是累计流量计，该累计流量计测定经由该第二气体供给管供给到所述气体贮存罐的气体的累计流量。

4.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

在所述排气侧阀被固定为规定的开度并且由所述气体量测定单元测定出的所述气体的量达到了规定量时，所述控制部进行控制来改变所述控制阀的所述阀开度，以使得所述处理容器的压力成为规定的固定压力。

5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，

在向所述气体贮存罐贮存所述气体时，所述控制阀关闭。

6.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

还具有设置于所述气体贮存罐与所述控制阀之间的截止阀，在向所述气体贮存罐贮存所述气体时，该截止阀关闭。

7.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，

从所述气体贮存罐向所述处理容器供给所述气体的时间设定为如下规定时间：在该规定时间内能够一边在所述处理容器内维持所述规定的固定压力一边供给所述气体贮存罐中贮存的所述规定量的所述气体。

8.根据权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，

所述规定量的所述气体向所述气体贮存罐的供给以及所述气体从所述气体贮存罐向所述处理容器的供给重复进行多次。

9.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述控制部还基于由所述压力检测单元检测出的所述处理容器内的压力进行对所述控制阀的开闭动作的控制。

10.根据权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于，

所述控制部进行对所述排气侧阀的控制，并且基于由所述气体量测定单元测定出的所述气体的量进行对所述控制阀的开闭动作的控制。

11.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述气体贮存罐用于贮存成膜用的原料气体。

12.一种气体供给方法，包括以下工序：

向经由第一气体供给管而与容器连接的气体贮存罐贮存气体；

检测该气体贮存罐中贮存的所述气体是否达到规定量；

将与所述容器连接的排气管的传导率设为固定；

检测所述容器内的压力；以及

在从所述气体贮存罐向所述容器供给气体时，基于所检测出的所述容器内的压力对设置于所述第一气体供给管的控制阀的阀开度进行反馈控制，以使得所述容器内的压力成为规定的固定压力，其中，所述控制阀能够改变阀开度，以控制从所述气体贮存罐向所述容器供给的气体的流路面积。