[发明专利]层叠膜及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及层叠膜及其制造方法。

背景技术

近年来，有机电致发光元件(以下也称为“有机EL元件”)作为自发光元件受到关注。有机EL元件是具有在支撑基板上以电极夹持有机化合物的发光层而成的结构，通过在电极间供给电流而发光的元件。对于有机EL元件，如果氧气、水蒸气等侵入元件内部，则会劣化，产生被称为暗斑的发光不良部。因此，在有机EL元件的领域，为了抑制氧气和水蒸气侵入元件内部，提出了将防止水蒸气等气体透过性能高的基板用于其发光元件部的支撑基板。

作为有机EL元件所使用的具有防止气体透过性能的基板，例如，提出了一种气体阻隔性的层叠膜，其具备基材以及形成于其表面上的含有硅、氧和碳的薄膜层(例如，参照专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2011-73430号公报

发明内容

上述专利文献1所记载的层叠膜对水蒸气可得到高的防止气体透过性能。然而，近年来对层叠膜要求更高水准的防止水蒸气透过性能，尤其是在用作有机EL元件等电子设备的支撑基板时，期望开发能够长期抑制暗斑产生的层叠膜。

本发明是鉴于上述现有技术所具有的课题而完成的，其目的在于提供一种层叠膜及其制造方法，该层叠膜能够以高水准防止水蒸气透过，在用作有机EL元件等电子设备的支撑基板时，能够长期抑制暗斑的产生。

为了达成上述目的，本发明提供一种层叠膜，是在树脂基材上至少层叠有气体阻隔层和无机聚合物层的层叠膜，上述无机聚合物层表面的算术平均高度(Sa)为20nm以下，在试样室内收容含有上述无机聚合物层的层叠膜，一边使25℃、85％RH的加湿空气在试样室内流通，一边在85℃对试样室内进行1小时加热时的无机聚合物层单位质量的NH₃气体产生量为5000质量ppm以下。

根据上述层叠膜，通过具备算术平均高度(Sa)和NH₃气体产生量为上述范围内的无机聚合物层，可以在附加无机聚合物层自身的气体阻隔性的同时弥补气体阻隔层存在的裂纹或通孔等缺陷，能够以更高水准防止水蒸气透过，并且由于无机聚合物层保护气体阻隔层，所以在用作有机EL元件等电子设备的支撑基板时，可以飞跃性地提高电子设备制造时的工艺耐性和所得的电子设备的长期保存时的稳定性，可以长期抑制暗斑的产生。然后，通过使无机聚合物层的算术平均高度(Sa)和NH₃气体产生量为上述范围内，可以充分得到这些效果。在此，若NH₃气体产生量多，则对层叠膜的防止水蒸气透过性造成不良影响，并且在使用层叠膜制造电子设备时和在制造后的保存时等，由于NH₃气体产生的影响而容易产生缺陷等。此外，上述NH₃气体产生量成为虽然存在于无机聚合物层中，但在高温高湿环境下容易从无机聚合物层放出的氮原子的量的指标。即，上述NH₃气体产生量的不同表示无机聚合物层内部的结构和组成的不同。本发明的发明人等发现，该NH₃气体产生量越少，无机聚合物层越会成为在结构和组成的方面稳定的状态，可充分得到上述效果。此外，本发明的发明人等发现，上述NH₃气体产生量也根据无机聚合物层的成膜方法和成膜条件而变化，但通过使该NH₃气体产生量为上述范围内，无机聚合物层成为最适合于取得上述效果的膜状态。进而，本发明的发明人等发现，通过使算术平均高度(Sa)为上述范围内，无机聚合物层的表面平坦性高，可以有效地弥补气体阻隔层的缺陷，并且保护气体阻隔层的功能优异，成为最适合于取得上述效果的膜状态。即，通过具备同时满足这些算术平均高度(Sa)和NH₃气体产生量的范围的无机聚合物层，层叠膜能够以高水准防止水蒸气透过，在用作有机EL元件等电子设备的支撑基板时，能够长期抑制暗斑的产生。

层叠膜中，无机聚合物层中的NH₃气体产生量优选为3000质量ppm以下。由此，层叠膜能够以更高水准防止水蒸气透过，在用作有机EL元件等电子设备的支撑基板时，能够更充分地长期抑制暗斑的产生。

层叠膜中，无机聚合物层中的NH₃气体产生量优选为50质量ppm以上。即，在无机聚合物层中，优选存在能够满足NH₃气体产生量的范围的程度的氮原子，由此，层叠膜能够以更高水准防止水蒸气透过，且在应用于电子设备时，可以更加充分地长期抑制暗斑的产生。