[发明专利]一种掩膜板及其制造方法

权利要求书

1.一种掩膜板，包括可透光基板，形成在所述可透光基板上的掩膜图形，其特征在于，所述可透光基板的透过率从边缘到中心递减。

2.如权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述可透光基板包括透过率一致的透明基板和覆盖在所述透明基板上的透过率从边缘到中心递减的补偿层，且，所述掩膜图形形成在所述透明基板的一侧，所述补偿层覆盖在所述透明基板的另一侧。

3.如权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述透过率从边缘到中心递减为从100％到70％递减。

4.如权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述从边缘到中心的透过率递减时其递减幅度根据所述掩膜板从边缘到中心到曝光机的机台的曝光距离的变化幅度进行调整。

5.如权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述补偿层包括如下至少之一：聚丙烯、聚乙烯、聚氯乙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯。

6.如权利要求2至5任一所述的掩膜板，其特征在于，所述补偿层由从边缘到中心的第1区域至第N区域组成，且第i区域包围第i+1区域，第i区域的透过率大于第i+1区域，每个区域内的透过率一致，所述i＝1，…，N-1，所述N为自然数且N1。

7.如权利要求6所述的掩膜板，其特征在于，所述第1区域至第N区域的材料相同，且第i区域的厚度小于第i+1区域。

8.一种掩膜板的制造方法，其特征在于，包括：

提供透过率一致的透明基板；

在所述透明基板的一侧覆盖透过率从边缘到中心递减的补偿层；

在所述透明基板的另一侧形成掩膜图形。

9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述补偿层的透过率从边缘到中心递减为从100％到70％递减。

10.如权利要求8或9所述的方法，其特征在于，按如下方式覆盖形成所述补偿层：在所述透明基板的一侧从边缘到中心依次覆盖第1区域至第N区域，且第i区域包围第i+1区域，第i区域的透过率大于第i+1区域，每个区域内的透过率一致，所述i＝1，…，N-1，所述N为自然数且N1。