[发明专利]一种掩膜板及其制造方法

说明书

本发明公开了一种掩膜板及其制造方法，所述掩膜板包括可透光基板，形成在所述可透光基板上的掩膜图形，所述可透光基板的透过率从边缘到中心递减。本发明实施例提供的掩膜板，通过透过率不同补偿由于曝光距离不同导致的柱状隔垫物高度不一致，使得柱状隔垫物高度更为均一，从而提供液晶产品质量。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤指一种掩膜板及其制造方法。

背景技术

随着液晶显示技术的发展，大尺寸，高品质，低成本成为未来发展方向。目前，随着对大尺寸的追求，TFT-LCD(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，薄膜场效应晶体管液晶显示器)制造不断向高世代发展。

TFT-LCD面板主要由彩膜基板和阵列基板对盒而成，两者间以柱状隔垫物(PhotoSpacer，简称PS)隔离出注入液晶的空隙。PS通常是使用掩膜板对沉积在彩膜基板上的光刻胶层进行曝光之后进行显影得到。掩膜板是在TFT-LCD的光刻工艺中用于进行图形制作的一种组件，掩膜板主要由透明基板和形成在该透明基板上的具有特定图形的不透光区域组成。通常制作掩膜板时，主要是在透明基板上沉积一层不透光膜层(例如铬层)，然后在该不透光膜层上刻画特定图形。

在TFT_LCD对合工艺中PS高度均一性是影响产品光学特性非常关键的参数，PS高度均一性越好，对液晶滴入量变化要求越低，增大液晶填入量margin(波动范围)，从而更好的控制盒厚，同时在信赖性评价方面可以保证玻璃基板上所有Panel(液晶面板)光学及相关特性一致，没有玻璃面取向之差，提高良率。相关技术中，采用接近式曝光时，曝光所得的PS高度不均，造成液晶滴入量的工艺margin缩小导致出现高温发黄、吸附发黄、气泡偏多等信赖性不良问题，大大影响产品品质。

发明内容

为了解决上述技术问题，本发明提供了一种掩膜板及其制造方法，提高柱状隔垫物的高度均一性，进而提高液晶面板品质。

为了达到本发明目的，本发明提供了一种掩膜板，包括可透光基板，形成在所述可透光基板上的掩膜图形，所述可透光基板的透过率从边缘到中心递减。

在本发明的一可选实施例中，所述可透光基板包括透过率一致的透明基板和覆盖在所述透明基板上的透过率从边缘到中心递减的补偿层，且，所述掩膜图形形成在所述透明基板的一侧，所述补偿层覆盖在所述透明基板的另一侧。

在本发明的一可选实施例中，所述透过率从边缘到中心递减为从100％到70％递减。

在本发明的一可选实施例中，所述从边缘到中心的透过率递减时其递减幅度根据所述掩膜板从边缘到中心到曝光机的机台的曝光距离的变化幅度进行调整。

在本发明的一可选实施例中，所述补偿层包括如下至少之一：聚丙烯、聚乙烯、聚氯乙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯。

在本发明的一可选实施例中，所述补偿层由从边缘到中心的第1区域至第N区域组成，且第i区域包围第i+1区域，第i区域的透过率大于第i+1区域，每个区域内的透过率一致，所述i＝1，…，N-1，所述N为自然数且N1。

在本发明的一可选实施例中，所述第1区域至第N区域的材料相同，且第i区域的厚度小于第i+1区域。

本发明一实施例还提供一种掩膜板的制造方法，包括：

提供透过率一致的透明基板；

在所述透明基板的一侧覆盖透过率从边缘到中心递减的补偿层；

在所述透明基板的另一侧形成掩膜图形。

在本发明的一可选实施例中，所述补偿层的透过率从边缘到中心递减为从100％到70％递减。