[发明专利]基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，其特征在于，

该基板处理装置具有：

液处理部，其使用处理液对基板进行液处理；

干燥处理部，其对由所述液处理部进行了液处理之后的湿润状态的所述基板进行干燥处理；

基板载置部，其供由所述液处理部进行液处理之前的干燥状态的所述基板载置；

第1输送部，其将处理前的所述基板从所述基板载置部向所述液处理部输送；

第2输送部，其从所述液处理部向所述干燥处理部输送湿润状态的所述基板；

第3输送部，其向所述基板载置部输送由所述液处理部进行液处理之前的所述基板，并且从所述干燥处理部输送干燥处理后的所述基板，

在面对所述第3输送部的一侧配置有所述第1输送部、所述第2输送部、所述基板载置部以及所述干燥处理部，在所述干燥处理部和所述基板载置部之间配置有所述第1输送部和所述第2输送部，在面对所述第1输送部和所述第2输送部并且与所述第3输送部相反的一侧配置有所述液处理部，在所述第3输送部和所述液处理部之间配置有所述第1输送部和所述第2输送部。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

针对1个所述第1输送部和1个所述第2输送部设置有多个所述液处理部或多个所述干燥处理部，多个所述液处理部或多个所述干燥处理部共用所述第1输送部和所述第2输送部。

3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述第3输送部在其与收容有多张所述基板的承载件之间进行所述基板的输送。

4.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

在所述干燥处理部中，使盖体和基板载置台相对于容器主体能够向收容到内部的处理位置和退避到外部的待机位置移动，利用所述第2输送部将所述基板输入所述干燥处理部的盖体和基板载置台的待机位置，利用所述第3输送部将所述基板从所述干燥处理部的盖体和基板载置台的待机位置输出。

5.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述干燥处理部使用超临界流体对湿润状态的所述基板进行干燥处理。