[发明专利]基板处理装置

说明书

本发明提供一种基板处理装置。防止处理液向干燥处理后的基板转移。在本发明中，具有：使用处理液来对基板进行液处理的液处理部；对由所述液处理部进行了液处理之后的湿润状态的所述基板进行干燥处理的干燥处理部；将处理前的所述基板向所述液处理部输送的第1输送部；从所述液处理部向所述干燥处理部输送湿润状态的所述基板的第2输送部；输送由所述液处理部进行液处理之前的所述基板、并且从所述干燥处理部输送干燥处理后的所述基板的第3输送部，在面对所述第3输送部的一侧配置有所述第1输送部、所述第2输送部以及所述干燥处理部，在面对所述第1输送部和所述第2输送部并与所述第3输送部相反的一侧配置有所述液处理部。

技术领域

本发明涉及基板处理装置，尤其是涉及在使用液处理部以处理液对基板进行了液处理之后使用超临界干燥处理部以超临界流体对基板进行干燥处理的基板处理装置。

背景技术

以往以来，在制造半导体零部件、平板显示器等的情况下，在使用基板处理装置以各种的处理液对半导体晶圆、液晶基板等基板实施了清洗、蚀刻等液处理之后，实施将残留于基板的处理液去除的干燥处理。

在该基板处理装置中，使用液处理部以处理液对基板进行液处理，之后，在使用超临界干燥处理部而将残留于基板的处理液置换成超临界状态的流体(超临界流体)之后使超临界状态的流体(超临界流体)气化，从而对基板进行干燥处理。

在进行该超临界干燥处理的基板处理装置中，设置有将基板输入液处理部、并且从超临界干燥处理部输出基板的基板输送部。

在以往的基板处理装置中，使用相同的基板输送部进行基板向液处理部的输入和基板从超临界干燥处理部的输出。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2002－329650号公报

发明内容

发明要解决的问题

不过，在上述以往的基板处理装置中，在利用基板输送部将基板向液处理部输入之际，在液处理部中飞散、挥发了的处理液有可能向基板输送部转移。

若在液处理部中处理液向基板输送部转移，则在随后利用相同的基板输送部从超临界干燥处理部输出基板之际，处理液从基板输送部向处理后(液处理后和干燥处理后)的基板转移，处理后的基板的表面有可能被污染。

用于解决问题的方案

因此，在本发明中，基板处理装置具有：液处理部，其使用处理液来对基板进行液处理；干燥处理部，其对由所述液处理部进行了液处理之后的湿润状态的所述基板进行干燥处理；第1输送部，其将处理前的所述基板向所述液处理部输送；第2输送部，其将湿润状态的所述基板从所述液处理部向所述干燥处理部输送；第3输送部，其对由所述液处理部进行液处理前的所述基板进行输送，并且从所述干燥处理部输送干燥处理后的所述基板，在面对所述第3输送部的一侧配置有所述第1输送部、所述第2输送部和所述干燥处理部，在面对所述第1输送部和所述第2输送部且与所述第3输送部相反的一侧配置有所述液处理部。

另外，所述干燥处理部使用超临界流体来对湿润状态的所述基板进行干燥处理。

发明的效果

在本发明中，能够防止处理液向干燥处理后的基板转移。

附图说明

图1是表示基板处理装置的俯视说明图。

图2是同侧面截面说明图。

图3是表示基板处理单元的放大说明图。