[发明专利]嵌套式Q值改善电路在审
申请号: | 201710207511.4 | 申请日: | 2017-03-31 |
公开(公告)号: | CN106849874A | 公开(公告)日: | 2017-06-13 |
发明(设计)人: | 李纪鹏;徐志伟;刘东栋 | 申请(专利权)人: | 浙江集速合芯科技有限公司 |
主分类号: | H03B5/12 | 分类号: | H03B5/12 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙)32204 | 代理人: | 柏尚春 |
地址: | 316000 浙江省舟*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 嵌套 改善 电路 | ||
1.一种嵌套式Q值改善电路,其特征在于,包括负跨导单元和正跨导单元,所述负跨导单元和正跨导单元相互并联且连接在需要提高Q值的电路上;所述负跨导单元为交叉耦合差分对;所述正跨导单元包括第三晶体管M3、第四晶体管M4、第三电阻R3、第四电阻R4和第二电流源,第三晶体管M3的漏极和第四晶体管M4的漏极连接需要提高Q值的电路,第三晶体管M3的栅极接第三晶体管M3的漏极,第四晶体管M4的栅极连接第四晶体管M4的漏极,第三晶体管M3的源级与第四晶体管M4的源级分别通过第三电阻R3和第四电阻R4连接第二电流源I2。
2.根据权利要求1所述的嵌套式Q值改善电路,其特征在于,所述负跨导单元包括第一晶体管M1、第二晶体管M2、第一电阻R1、第二电阻R2和第一电流源I1,第一晶体管M1和第二晶体管M2的漏极连接需要提高Q值的电路,第一晶体管M1的栅极连接第二晶体管M2的漏极,第二晶体管M2的栅极连接第一晶体管M1的漏极,第一晶体管M1的源级和第二晶体管M2的源级分别通过第一电阻R1和第二电阻R2连接第一电流源I1。
3.根据权利要求1或2所述的嵌套式Q值改善电路,其特征在于,第一晶体管M1和第二晶体管M2型号相同,第一电阻R1和第二电阻R2型号相同;第三晶体管M3和第四晶体管M4型号相同,第三电阻R3和第四电阻R4型号相同。
4.根据权利要求1或2所述的嵌套式Q值改善电路,其特征在于,第一晶体管M1、第二晶体管M2、第三晶体管M3、第四晶体管M4均为NMOS管。
5.根据权利要求1或2所述的嵌套式Q值改善电路,其特征在于,第一晶体管M1、第二晶体管M2、第三晶体管M3、第四晶体管M4均为PMOS管。
6.根据权利要求1或2所述的嵌套式Q值改善电路,其特征在于,第一晶体管M1、第二晶体管M2、第三晶体管M3、第四晶体管M4均为BJT管。
7.根据权利要求1或2所述的嵌套式Q值改善电路,其特征在于,所述需要提高Q值的电路为LC谐振器或带通连续时间Σ-Δ模数转换器中的谐振器或带通滤波器或锁相环。
8.根据权利要求1或2所述的嵌套式Q值改善电路,其特征在于,所述嵌套式Q值改善电路集成在芯片中。
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