[发明专利]嵌套式Q值改善电路在审

专利信息
申请号: 201710207511.4 申请日: 2017-03-31
公开(公告)号: CN106849874A 公开(公告)日: 2017-06-13
发明(设计)人: 李纪鹏;徐志伟;刘东栋 申请(专利权)人: 浙江集速合芯科技有限公司
主分类号: H03B5/12 分类号: H03B5/12
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙)32204 代理人: 柏尚春
地址: 316000 浙江省舟*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 嵌套 改善 电路
【权利要求书】:

1.一种嵌套式Q值改善电路,其特征在于,包括负跨导单元和正跨导单元,所述负跨导单元和正跨导单元相互并联且连接在需要提高Q值的电路上;所述负跨导单元为交叉耦合差分对;所述正跨导单元包括第三晶体管M3、第四晶体管M4、第三电阻R3、第四电阻R4和第二电流源,第三晶体管M3的漏极和第四晶体管M4的漏极连接需要提高Q值的电路,第三晶体管M3的栅极接第三晶体管M3的漏极,第四晶体管M4的栅极连接第四晶体管M4的漏极,第三晶体管M3的源级与第四晶体管M4的源级分别通过第三电阻R3和第四电阻R4连接第二电流源I2。

2.根据权利要求1所述的嵌套式Q值改善电路,其特征在于,所述负跨导单元包括第一晶体管M1、第二晶体管M2、第一电阻R1、第二电阻R2和第一电流源I1,第一晶体管M1和第二晶体管M2的漏极连接需要提高Q值的电路,第一晶体管M1的栅极连接第二晶体管M2的漏极,第二晶体管M2的栅极连接第一晶体管M1的漏极,第一晶体管M1的源级和第二晶体管M2的源级分别通过第一电阻R1和第二电阻R2连接第一电流源I1。

3.根据权利要求1或2所述的嵌套式Q值改善电路,其特征在于,第一晶体管M1和第二晶体管M2型号相同,第一电阻R1和第二电阻R2型号相同;第三晶体管M3和第四晶体管M4型号相同,第三电阻R3和第四电阻R4型号相同。

4.根据权利要求1或2所述的嵌套式Q值改善电路,其特征在于,第一晶体管M1、第二晶体管M2、第三晶体管M3、第四晶体管M4均为NMOS管。

5.根据权利要求1或2所述的嵌套式Q值改善电路,其特征在于,第一晶体管M1、第二晶体管M2、第三晶体管M3、第四晶体管M4均为PMOS管。

6.根据权利要求1或2所述的嵌套式Q值改善电路,其特征在于,第一晶体管M1、第二晶体管M2、第三晶体管M3、第四晶体管M4均为BJT管。

7.根据权利要求1或2所述的嵌套式Q值改善电路,其特征在于,所述需要提高Q值的电路为LC谐振器或带通连续时间Σ-Δ模数转换器中的谐振器或带通滤波器或锁相环。

8.根据权利要求1或2所述的嵌套式Q值改善电路,其特征在于,所述嵌套式Q值改善电路集成在芯片中。

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