[发明专利]半导体工艺控制系统和半导体处理控制系统有效

专利信息
申请号: 201710208271.X 申请日: 2013-02-20
公开(公告)号: CN107515830B 公开(公告)日: 2020-11-20
发明(设计)人: 罗纳德·维恩·斯肖尔;马克·罗杰·科温顺;苏雷什·库马拉斯瓦米;阿米塔巴·普里 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: G06F13/10 分类号: G06F13/10
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国;赵静
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 半导体 工艺 控制系统 处理
【说明书】:

本发明的实施例涉及使用非旧有控制器执行旧有半导体应用程序的系统及方法。在一些实施例中,硬件抽象层及/或模仿器可用于提供非旧有操作系统与包括旧有应用程序的旧有部件之间的通信。在一些实施例中,多种方法及/或装置可用于模仿及/或翻译旧有部件与非旧有部件之间的通信。

本申请是申请日为2013年2月20日、申请号为201380012269.5、发明名称为“半导体工艺控制系统和半导体处理控制系统”的发明专利申请的分案申请。

发明背景

本发明大体上涉及基板处理,且更具体地说,本发明涉及用于半导体处理工具的控制系统。

半导体装置(诸如集成电路、平板显示器、太阳能面板及其它产品)的制造经常涉及极薄层的形成及诸如硅晶片或玻璃面板的基板上此类层的图案化。已针对半导体沉积及图案化工艺而开发多种技术,涉及精密工具的使用以执行必要的沉积、蚀刻及其它处理步骤。

制造商为购买此类工具投资巨大。制造商亦在维修所述工具及最佳化且评定由各工具所执行的多个处理步骤上投资巨大。一旦已针对特定任务(例如,在集成电路(Integrated circuit;IC)的特定制造步骤下沉积氧化硅层)最佳化且评定由特定工具执行的工艺,对所述工艺的任何改变经常需要重新评定所变化的工艺,所述工艺花费大且费时。因此,在过去许多年,在一些情况下需要特定工具执行相同功能。

然而,当给定工具用久时,维护所述工具可能需要的一些零件可能不再可用。例如,化学气相沉积(CVD)工具可包括计算机控制系统,除其它部件外,所述计算机控制系统包括计算机处理器、RAM及硬盘存储装置,及多种I/O接口(诸如光笔显示接口),所述I/O接口允许信息在工具与控制系统之间进行交换,及/或允许使用者输入信息以对工具进行操作。脱离工具而执行的某些半导体工艺可基于取决于处理器的速度的算法或取决于计算机控制系统的原始部件的其它变量而定时。当那些原始部件停止制造时,用执行相同或类似功能的新部件替换所述部件可对所述工具所执行工艺的定时或其它变量造成不良影响。此举可能要求工艺被重新评定、重新校准、重新试验等,这种流程可能极昂贵且费时。

发明内容

本发明的实施例涉及半导体工艺控制系统,所述半导体工艺控制系统可并入至旧有半导体工艺控制系统且与旧有半导体制造工具交互。用语“旧有”代表具有淘汰(不再可用)部件或在完全支持现有能力同时需要添加附加能力的任何半导体控制系统。半导体工艺控制系统可以无缝方式替换旧有半导体工艺控制系统,所述方式允许所有先前开发的工艺及配方在处理功能方面无变化的情况下执行,同时提供新的及改良的功能性。

本发明的一个特定实施例涉及半导体工艺控制器,所述半导体工艺控制器可实施为单板计算机(SBC)。所述单板计算机可替换旧有半导体工艺控制系统的至少一部分,及/或经调适以控制基板处理工具。在本发明的一些实施例中,SBC可包括:光笔视频控制模块;旧有控制器模块,模仿执行第一操作系统(例如,基于摩托罗拉(Motorola)或基于VME的操作系统)的基于68xxx的控制器;第二控制模块,执行不同于第一操作系统的第二操作系统(例如,基于英特尔(Intel)或基于PCI的操作系统);及数据存储模块。在一些实施例中,第一操作系统及第二操作系统可在同一处理器或不同处理器上操作。在一些实施例中,一个操作系统可模仿另一个操作系统的至少多个部分。

在一些实施例中,SBC亦可包括底板总线接口,所述底板总线接口可包括第一连接器,所述第一连接器允许SBC连接至较大控制系统的多个部分。SBC亦包括多个旧有I/O端口(包括至少16个RS-232串联端口、第一USB端口及第二USB端口,及第一以太网络端口及第二以太网络端口),及/或第二多个I/O端口(包括至少第三USB端口及第四USB端口,第三以太网络端口及第四以太网络端口,及VGA视频端口)。

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