[发明专利]电容性侧面位置外推

权利要求书

1.一种处理系统，包括：

传感器电路，其配置成：

在感测区的多个传感器电极上驱动感测信号，所述感测区包括表面感测区，

获取包括所述感测信号的影响的互电容性测量结果，以及

获取包括所述感测信号的影响的第一绝对电容性测量结果；以及

处理电路，其配置成：

执行所述互电容性测量结果与所述第一绝对电容性测量结果的第一比较以获得比较值，确定所述比较值是否超过第一阈值，以及

响应于确定所述比较值超过所述第一阈值来检测接近于输入设备的侧表面的输入对象的存在；

其中，没有传感器电极布置于所述侧表面或所述侧表面的表面感测区上。

2.根据权利要求1所述的处理系统，其中所述互电容性测量结果是使用第一电极获得的，并且所述第一绝对电容性测量结果是使用第二电极获得的。

3.根据权利要求2所述的处理系统，其中所述第一电极比所述第二电极更接近于所述侧表面。

4.根据权利要求1所述的处理系统，其中所述互电容性测量结果是使用与所述第一绝对电容性测量结果相同的电极获得的。

5.根据权利要求1所述的处理系统，其中所述比较值是对应于所述互电容性测量结果与所述第一绝对电容性测量结果之间的比率的比率值。

6.根据权利要求1所述的处理系统，其中检测所述存在包括确定所述比较值是否在由所述第一阈值和第二阈值设定的范围内。

7.根据权利要求6所述的处理系统，其中所述第一阈值和所述第二阈值通过以下来设定：

生成用于所述第一比较的训练数据，其中所述训练数据包括多个比较结果，每一个比较结果针对被放置在所述感测区的多个位置中的预定义输入对象；

识别在接近于所述侧表面的所述多个位置的位置与未接近于所述侧表面的所述多个位置的位置相比之间进行区分的所述第一阈值和所述第二阈值。

8.根据权利要求1所述的处理系统，其中所述传感器电路还配置成：

获取包括所述感测信号的影响的第二绝对电容性测量结果；

其中所述处理电路还配置成：

执行所述互电容性测量结果与所述第二绝对电容性测量结果的第二比较，

其中基于所述第一比较和所述第二比较均满足准则来检测所述存在。

9.一种用于电容性感测的方法，包括：

获取包括感测区的感测信号的影响的互电容性测量结果，所述感测区包括表面感测区；

获取包括所述感测信号的影响的第一绝对电容性测量结果；

执行所述互电容性测量结果与所述第一绝对电容性测量结果的第一比较以获得比较值；

确定所述比较值是否超过第一阈值；以及

响应于确定所述比较值超过所述第一阈值来检测接近于输入设备的侧表面的输入对象的存在；

其中，没有传感器电极布置于所述侧表面或所述侧表面的表面感测区上。

10.根据权利要求9所述的方法，其中所述互电容性测量结果是使用第一电极获得的，并且所述第一绝对电容性测量结果是使用第二电极获得的。

11.根据权利要求10所述的方法，其中所述第一电极比所述第二电极更接近于所述侧表面。

12.根据权利要求9所述的方法，其中所述互电容性测量结果是使用与所述第一绝对电容性测量结果相同的电极获得的。

13.根据权利要求9所述的方法，其中所述比较值是对应于所述互电容性测量结果与所述第一绝对电容性测量结果的比率的比率值。

14.根据权利要求9所述的方法，其中检测存在包括确定所述比较值是否在由所述第一阈值和第二阈值设定的范围内。