[发明专利]晶片抛光系统有效
申请号: | 201710208706.0 | 申请日: | 2017-03-31 |
公开(公告)号: | CN108262691B | 公开(公告)日: | 2021-07-09 |
发明(设计)人: | 白承元;李哉瞟 | 申请(专利权)人: | 爱思开矽得荣株式会社 |
主分类号: | B24B57/02 | 分类号: | B24B57/02;B24B37/04;B24B53/017 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 茅翊忞 |
地址: | 韩国庆*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 晶片 抛光 系统 | ||
1.一种晶片抛光系统包括:
抛光单元;
浆料分配单元,所述浆料分配单元安装在所述抛光单元上并分配浆料流入所述抛光单元内用于晶片抛光;
浆料储罐,所述浆料储罐连接到所述浆料分配单元并储存浆料;
浆料泵,所述浆料泵连接到所述抛光单元和所述浆料储罐,以将浆料从所述浆料储罐传输到所述抛光单元;
第一循环管线,所述第一循环管线的一侧连接到所述浆料储罐;
第二循环管线,所述第二循环管线的一侧连接到所述第一循环管线的另一侧,而所述第二循环管线的另一侧连接到所述浆料分配单元;
连接到所述第二循环管线的清洁液体供应单元,用来供应流过所述第二循环管线的清洁液体;
第三循环管线,所述第三循环管线连接所述抛光单元和所述浆料储罐;
设置在所述第三循环管线内的排放装置;
供应管线;
连接到排放装置的第一排放管线;以及
连接到第一循环管线以排放残存在第二循环管线内的清洁液体的第二排放管线,
其中,在抛光过程期间,关闭第二排放管线并且排放装置使用第三循环管线以提供从抛光单元进入浆料储罐的浆料,并且
其中,在清洁过程期间,打开第二排放管线并且排放装置将从抛光单元流出的清洁液体排出到打开的第二排放管线,
其中,在排放残存在第二循环管线内的清洁液体的过程中,第一手动阀和第一自动阀被关闭以堵塞清洁液体流入第二循环管线,并且第三自动阀被打开以将残存在第二循环管线内的清洁液体通过第三排放管线排放到外界,
其中,浆料通过补给管线补充到浆料储罐,
其中,所述供应管线包括止回阀,
其中,进一步包括:
流动控制阀和流量计;
控制器,所述控制器电气地连接到所述流动控制阀和所述流量计;以及
报警器,所述报警器电气地连接到所述控制器,
其中,当流过第二循环管线的浆料流量超出预定的范围时,所述控制器将操作信号传输到所述报警器,并且
其中,当所述浆料流动时以及当所述清洁液体流动时,流量范围被不同地设置。
2.如权利要求1所述的晶片抛光系统,其特征在于,进一步包括连接到所述第二循环管线的第三排放管线。
3.如权利要求2所述的晶片抛光系统,其特征在于,所述第三排放管线排放残存在第二循环管线内的清洁液体。
4.如权利要求2所述的晶片抛光系统,其特征在于,所述流动控制阀和流量计设置在所述浆料分配单元和所述第三排放管线之间,并设置在所述第二循环管线内。
5.如权利要求2所述的晶片抛光系统,其特征在于,进一步包括设置在所述第三排放管线内的第三自动阀。
6.如权利要求1所述的晶片抛光系统,其特征在于,所述供应管线的一侧连接到所述第二循环管线,而另一侧连接到所述清洁液体供应单元,且所述供应管线中设置了止回阀、第一手动阀和第一自动阀。
7.如权利要求6所述的晶片抛光系统,其特征在于,进一步包括第二自动阀,所述第二自动阀设置在所述第一循环管线和所述供应管线之间,并设置在所述第二循环管线内。
8.如权利要求7所述的晶片抛光系统,其特征在于,进一步包括设置在所述浆料泵和所述第二自动阀之间的第一旁路管线,所述第一旁路管线的一侧连接到所述第一循环管线,而另一侧连接到所述浆料储罐。
9.如权利要求8所述的晶片抛光系统,其特征在于,进一步包括设置在所述第一旁路管线内的第二手动阀。
10.如权利要求8所述的晶片抛光系统,其特征在于,进一步包括第二旁路管线,所述第二旁路管线设置在所述第一旁路管线从所述第一循环管线分支出来的分支点与所述第二自动阀之间,所述第二旁路管线的一侧连接到所述第一循环管线,而另一侧连接到所述浆料储罐。
11.如权利要求10所述的晶片抛光系统,其特征在于,进一步包括设置在第二旁路管线内的第四自动阀。
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