[发明专利]一种硅片翻转冲洗装置

权利要求书

1.一种硅片翻转冲洗装置，包括装置本体（1）、上盖滑槽（2）、防水摄像头（3）、圆盘（4）、圆盘旋转驱动装置（5）、硅片插槽（6）、上盖（7）、高压喷头（8）、加压泵（9）、驱动装置防水罩（10）、驱动装置安装平台（11）、滚轮（12）、液压装置防水罩（13）、支撑平台（14）、液压装置（15）、底部出水口（16）、支撑杆（17）、液压缸（18）、观察窗（19）、操作面板（20）、齿轮箱（21）和聚水罩（22），其特征在于：所述上盖滑槽（2）设置于装置本体（1）的顶端，所述上盖（7）于上盖滑槽（2）内部做往复式推拉运动，所述防水摄像头（3）设置于装置本体（1）内部左侧的内壁上，且位于高压喷头（8）的上部，所述圆盘（4）安装于齿轮箱（21）的顶端，且与齿轮箱（21）转动相连接，所述圆盘旋转驱动装置（5）设置于驱动装置安装平台（11）的顶端，且与齿轮箱（21）内部的齿轮转动相啮合，所述装置本体（1）的底部设置有滚轮（12），所述硅片插槽（6）固定于圆盘旋转驱动装置（5）的顶端，所述高压喷头（8）安装有两处，置于装置本体（1）内部左右两侧的内壁上，所述加压泵（9）设置有两处，且分别安装于装置本体（1）左右两侧的外壁上，所述驱动装置防水罩（10）套置于圆盘旋转驱动装置（5）的上部，且支撑于驱动装置安装平台（11）上，所述驱动装置安装平台（11）的底部与液压缸（18）的顶端固定相连接，所述液压装置防水罩（13）套置于液压装置（15）的上部，且支撑于支撑平台（14）上，所述液压装置（15）设置于支撑平台（14）的顶端，且位于两处液压缸（18）的中间，所述底部出水口（16）设置于装置本体（1）的底部，且底部出水口（16）与聚水罩（22）相连通，所述支撑杆（17）设置于支撑平台（14）的底部，且支撑于聚水罩（22）上，所述装置本体（1）正面外壁上设置有操作面板（20），且操作面板（20）位于观察窗（19）的右侧，所述聚水罩（22）设置于支撑平台（14）的底部，所述支撑平台（14）设置于装置本体（1）的内部，且与装置本体（1）左右两侧的内壁固定相连接，所述操作面板（20）上的触摸屏与防水摄像头（3）电性相连接。

2.根据权利要求1所述的一种硅片翻转冲洗装置，其特征在于：所述液压缸（18）设置有四处，呈左右前后对称设置。

3.根据权利要求1所述的一种硅片翻转冲洗装置，其特征在于：所述圆盘旋转驱动装置（5）通过齿轮箱（21）驱动着圆盘（4）做360°旋转运动。

4.根据权利要求1所述的一种硅片翻转冲洗装置，其特征在于：所述硅片插槽（6）为两处一组，共设置有十五组，呈环形阵列分布于圆盘（4）上。

5.根据权利要求1所述的一种硅片翻转冲洗装置，其特征在于：所述支撑平台（14）设置有多处漏水孔。