[发明专利]一种新型电磁屏蔽膜

权利要求书

1.一种新型电磁屏蔽膜，包括由下至上顺序设置的基层（1）、绝缘层（2）、金属网层（3）、入射层（5）和保护层（8），其特征在于，所述金属网层（3）设有两层且分别与绝缘层（2）和入射层（5）相接，两个金属网层（3）之间设有导磁层（4），入射层（5）包括由碳纳米管和改性石墨构成的导电填料，保护层（8）的下表面依次通过吸光层（7）和近红外遮蔽层（6）与入射层（5）相接。

2.根据权利要求1所述的一种新型电磁屏蔽膜，其特征在于，所述碳纳米管和改性石墨的质量比为1：7-1：2。

3.根据权利要求1所述的一种新型电磁屏蔽膜，其特征在于，所述入射层（5）的体积电阻率为0 .1-10 Ω·cm，厚度为300-800 nm。

4.根据权利要求1所述的一种新型电磁屏蔽膜，其特征在于，所述绝缘层（2）选自YD128 环氧树脂、聚酰亚胺树脂中的任一种。

5.根据权利要求1所述的一种新型电磁屏蔽膜，其特征在于，所述金属网层（3）为1Cr18Ni9Ti、铜箔、镍箔的任一种，用于屏蔽电磁辐射和电磁的相互干扰。

6.根据权利要求1所述的一种新型电磁屏蔽膜，其特征在于，所述导磁层（4）为非晶带材，包括钴镍非晶软磁合金、铁镍非晶软磁合金中的任一种。

7.根据权利要求1所述的一种新型电磁屏蔽膜，其特征在于，所述近红外遮蔽层（6）选自纳米铯钨青铜粉、纳米氧化锡锑中的一种或两种的组合。

8.根据权利要求1所述的一种新型电磁屏蔽膜，其特征在于，所述吸光层（7）为炭黑、石墨、氧化铁黑中的一种或多种，吸光层（7）的厚度为10-400 nm。

9.根据权利要求1所述的一种新型电磁屏蔽膜，其特征在于，所述基层（1）和保护层（8）分别为聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯中的一种或两种，所述保护层（8）为离型膜层。