[发明专利]一种新型电磁屏蔽膜在审
申请号: | 201710216371.7 | 申请日: | 2017-04-05 |
公开(公告)号: | CN106937522A | 公开(公告)日: | 2017-07-07 |
发明(设计)人: | 徐强 | 申请(专利权)人: | 合肥美凯电子有限公司 |
主分类号: | H05K9/00 | 分类号: | H05K9/00;G02B5/00;G02B5/20 |
代理公司: | 南京纵横知识产权代理有限公司32224 | 代理人: | 董建林 |
地址: | 230601 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 新型 电磁 屏蔽 | ||
技术领域
本发明涉及屏蔽膜领域,具体涉及一种新型电磁屏蔽膜。
背景技术
随着城市信息化产业的不断发展,越来越多的电子产品采用大规模或超大规模集成电路,其内部的电子部件之间相互接收的电磁波或从外部接收的电磁波都会对电子设备的运作产生严重干扰,降低运行效率,且由于需屏蔽的电磁频谱越来越宽, 对电磁屏蔽效能的要求也越来越高, 单一材料已无法满足当前电磁屏蔽的要求,进而推动了电磁屏蔽材料从单一材料向复合材料的方向发展。
目前电子产品外壳大多采用塑料制成,具有轻、薄和小的优势,但塑料制品的绝缘体属性使其完全不具备屏蔽电磁波的功效,因此设计一种具有电磁波屏蔽功能的塑料对电子产品的持续发展具有重要意义。此外,为保证有较高的屏蔽效能,市场上的抗电磁干扰薄膜通常采用两层以上的多层复合形式,主要由基层、绝缘层、金属网层、导电胶层和保护层组成,但大都存在材料取用和结构设计欠妥、生产成本高、屏蔽性能及力学性能差的弊端。
发明内容
为解决现有技术中存在的屏蔽性能及力学性能差的问题,本发明提供一种新型电磁屏蔽膜。
为实现上述目的,本发明采用的技术方案为:
一种新型电磁屏蔽膜,包括由下至上顺序设置的基层、绝缘层、金属网层、入射层和保护层,金属网层设有两个且分别与绝缘层和入射层相接,两个金属网层之间设有导磁层,入射层包括由碳纳米管和改性石墨构成的导电填料,保护层的下表面依次通过吸光层和近红外遮蔽层与入射层相接。
进一步的,所述碳纳米管和改性石墨的质量比为1:7-1:2。
进一步的,所述入射层的体积电阻率为0 .1-10 Ω·cm,厚度为300-800 nm。
进一步的,所述绝缘层选自YD128 环氧树脂、聚酰亚胺树脂中的任一种。
进一步的,所述金属网层为1Cr18Ni9Ti、铜箔、镍箔的任一种,用于屏蔽电磁辐射和电磁的相互干扰。
进一步的,所述导磁层为非晶带材,包括钴镍非晶软磁合金、铁镍非晶软磁合金中的任一种。
进一步的,所述近红外遮蔽层选自纳米铯钨青铜粉、纳米氧化锡锑中的一种或两种的组合。
进一步的,所述吸光层为炭黑、石墨、氧化铁黑中的一种或多种,吸光层的厚度为10-400 nm。
进一步的,所述基层和保护层分别为聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯中的一种或两种,所述保护层为离型膜层。
与现有技术相比,本发明具有以下优点:
本发明公开了一种新型电磁屏蔽膜,包括由下至上依次设置的基层、绝缘层、金属网层、入射层和保护层,金属网层有两个且分别与绝缘层的上表面和入射层的下表面相接触,两个金属网层之间设有导磁层,绝缘层的下表面与基层相接,保护层的下表面依次通过吸光层和近红外遮蔽层与入射层的上表面相接。本发明提供的新型电磁屏蔽膜具有多层复合结构,结合高导电和高导磁材料,在保证绝缘层与金属网层之间具有较高粘合力的同时有效阻止电磁波对邻近线路及元件的干扰,提高电磁屏蔽性能和光吸收能力,保持色纯度和高透光性,具有广阔的应用前景。
附图说明
图1是本发明的结构示意图;
其中,1-基层;2-绝缘层;3-金属网层;4-导磁层;5-入射层;6-近红外遮蔽层;7-吸光层;8-保护层。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明作更进一步的说明。
名词解释:
聚对苯二甲酸乙二醇酯,英文简称:PET;聚萘二甲酸乙二醇酯,英文简称:PEN。
如图1所示, 一种新型电磁屏蔽膜,包括由下至上依次设置的基层1、绝缘层2、金属网层3、入射层5和保护层8,金属网层3有两个且分别与绝缘层2的上表面和入射层5的下表面相接触,两个金属网层3之间设有导磁层4,绝缘层2的下表面与基层1相接,保护层8的下表面依次通过吸光层7和近红外遮蔽层6与入射层5的上表面相接。
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