[发明专利]化学气相沉积装置

说明书

本发明提供一种化学气相沉积装置，对现有的用于制作阵列基板的化学气相沉积装置的进行改造，通过在挡板(11)对应待沉积的半板(12)的区域设置沉积槽(111)，使沉积槽(111)的一边与挡板(11)的中轴线重合，剩余的三边与挡板(11)的相应边的距离相同，即能够在半板(12)上沉积薄膜，减少购买新机台所投资的费用，且改造费用低、改造周期短，有效降低生产成本。

技术领域

本发明涉及显示器件制程领域，尤其涉及一种化学气相沉积装置。

背景技术

在显示技术领域，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)与有机发光二极管显示器(Organic Light Emitting Diode，OLED)等平板显示装置已经逐步取代阴极射线管(Cathode Ray Tube，CRT)显示器。

LCD包括液晶显示面板、及背光模组，液晶显示面板本身不发光，需要由背光模组提供光源。进一步地，液晶显示面板由一彩色滤光片基板(Color Filter，CF)、一薄膜晶体管阵列基板(Thin Film Transistor Array Substrate，TFT Array Substrate)、以及一填充于两基板间的液晶层(Liquid Crystal Layer)所构成，且CF基板与TFT基板均采用刚性的玻璃作为衬底，所以平板形式的液晶显示面板不可弯折。

OLED与LCD相比，由于其重量轻，自发光，广视角、驱动电压低、发光效率高、功耗低、响应速度快、生产成本低等优点，应用范围越来越广泛，尤其是柔性OLED显示屏具有可弯折易携带的特点，成为显示技术领域研究和开发的主要方向。具有触控功能的柔性OLED引入了ONCELL触控技术，即在OLED面板上直接进行触控制程的制作(Direct on celltouch，简称DOT)，DOT制作流程中无机物薄膜的沉积与阵列基板制程中无机物薄膜的沉积基本相同，为了节省产线成本，期望触控制程的制作可以在用于制作阵列基板的化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition，CVD)设备上完成对无机物薄膜的沉积。

如图1所示，为现有的一种用于制作阵列基板的化学气相沉积装置的主视图，该现有的化学气相沉积装置包括：支撑基座(susceptor)103、平铺在所述支撑基座103上的待沉积大板(substrate)102、设于所述待沉积大板102上的挡框(shadow frame)101。所述挡框101呈矩形，其遮挡住待沉积大板102的四周边缘，用于确定待沉积大板102的薄膜沉积区域。图2所示为该现有的化学气相沉积装置的俯视图，可见所述挡框101的四条边a、b、c、d的宽度是相等的，并且所述挡框101的四条边a、b、c、d与待沉积大板102的相应边缘的重叠区域e的宽度均在2mm-8mm之间。图3所示为该现有的化学气相沉积装置的挡框101的俯视图，图4所示为所述挡框101在A-A处的截面剖视图，图5所示为所述挡框101在B-B截面剖视图，可见所述挡框101的四条边a、b、c、d的厚度h是相等的。

由于其它技术的限制，DOT的制作是基于半板(half substrate)完成的，因此，有必要设计一种化学气相沉积装置，即适用于在大板上沉积薄膜来制作阵列基板，也适用在半板上沉积薄膜来制作DOT。

发明内容

本发明的目的在于提供一种化学气相沉积装置，能够在半板上沉积薄膜，减少购买新机台所投资的费用，且改造费用低、改造周期短，有效降低生产成本。

为实现上述目的，本发明提供一种化学气相沉积装置，包括：支撑基座、平铺在所述支撑基座一侧上的半板、及设于所述待沉积的半板上且遮挡该待沉积的半板的四周边缘的挡板；

所述挡板对应待沉积的半板的区域设有沉积槽，所述沉积槽用于确定待沉积的半板的薄膜沉积区域。

所述沉积槽的一边与挡板的中轴线重合，剩余的三边与挡板的相应边的距离相同。

所述挡板与沉积槽的形状均为矩形。