[发明专利]光掩模坯基板收纳容器、光掩模坯基板的保管方法以及光掩模坯基板的输送方法

权利要求书

1.一种光掩模坯基板收纳容器，用于收纳光掩模坯基板，所述光掩模坯基板收纳容器的特征在于，具备：

内部构件，所述内部构件具有内部盒体与保持构件，所述内部盒体可以收容所述光掩模坯基板，所述保持构件从上方固定已收纳在所述内部盒体中的所述光掩模坯基板；

容器本体，所述容器本体具有下箱与上盖，所述下箱可以收容所述内部盒体，所述上盖可以在内侧嵌合所述保持构件；以及，

密封带，所述密封带密封所述容器本体；

所述容器本体和所述内部构件由高分子系材料构成，所述高分子系材料在采取0.1g样品时在以40℃保持60分钟的情况下释放的排气成分中，根据气相色谱质谱仪检测到的排气总量以正十四烷换算为1.9×10³ng以下，

所述密封带在采取10mm×10mm尺寸的样品时在以150℃保持10分钟的情况下释放的排气成分中，根据气相色谱质谱仪检测到的排气总量以正十四烷换算为1.8×10³ng以下。

2.如权利要求1所述的光掩模坯基板收纳容器，其中，所述容器本体和所述内部构件由高分子系材料构成，所述高分子系材料在采取0.1g样品时在以40℃保持60分钟的情况下释放的排气成分中，根据气相色谱质谱仪检测到的排气总量以正十四烷换算为500ng以下，

所述密封带在采取10mm×10mm尺寸的样品时在以150℃保持10分钟的情况下释放的排气成分中，根据气相色谱质谱仪检测到的排气总量以正十四烷换算为1.0×10³ng以下。

3.如权利要求1所述的光掩模坯基板收纳容器，其中，所述内部构件由高分子系材料构成，所述高分子系材料在采取2g样品时在以100℃保持20分钟的情况下释放的排气成分中，根据气相色谱质谱仪检测到的排气总量以正十四烷换算为1.0×10³ng以下。

4.如权利要求2所述的光掩模坯基板收纳容器，其中，所述内部构件由高分子系材料构成，所述高分子系材料在采取2g样品时在以100℃保持20分钟的情况下释放的排气成分中，根据气相色谱质谱仪检测到的排气总量以正十四烷换算为1.0×10³ng以下。

5.如权利要求1所述的光掩模坯基板收纳容器，其中，所述容器本体由以聚碳酸酯为主要成分的高分子系材料构成，并且所述容器本体的表面电阻值为2.0×10⁴Ω/sq以下，

所述密封带具有基材与粘合面，所述基材由聚对苯二甲酸乙二酯、聚丙烯、聚乙烯中的任一种构成，所述粘合面由聚丙烯酸酯构成。

6.如权利要求2所述的光掩模坯基板收纳容器，其中，所述容器本体由以聚碳酸酯为主要成分的高分子系材料构成，并且所述容器本体的表面电阻值为2.0×10⁴Ω/sq以下，

所述密封带具有基材与粘合面，所述基材由聚对苯二甲酸乙二酯、聚丙烯、聚乙烯中的任一种构成，所述粘合面由聚丙烯酸酯构成。

7.如权利要求3所述的光掩模坯基板收纳容器，其中，所述容器本体由以聚碳酸酯为主要成分的高分子系材料构成，并且所述容器本体的表面电阻值为2.0×10⁴Ω/sq以下，

所述密封带具有基材与粘合面，所述基材由聚对苯二甲酸乙二酯、聚丙烯、聚乙烯中的任一种构成，所述粘合面由聚丙烯酸酯构成。

8.如权利要求4所述的光掩模坯基板收纳容器，其中，所述容器本体由以聚碳酸酯为主要成分的高分子系材料构成，并且所述容器本体的表面电阻值为2.0×10⁴Ω/sq以下，

所述密封带具有基材与粘合面，所述基材由聚对苯二甲酸乙二酯、聚丙烯、聚乙烯中的任一种构成，所述粘合面由聚丙烯酸酯构成。

9.如权利要求1至8中任一项所述的光掩模坯基板收纳容器，其中，由所述容器本体的内面产生的排气成分得来的排气总量、与由所述内部构件的表面产生的排气成分得来的排气总量的合计值小于3.0×10³μg，

由密封带产生的排气成分得来的排气总量小于1.4×10²μg，所述密封带密封所述容器本体。

10.一种光掩模坯基板的保管方法，其特征在于，将所述光掩模坯基板收纳在权利要求1至8中任一项所述的光掩模坯基板收纳容器内进行保管。