[发明专利]全息平焦场光栅的制作方法在审
| 申请号： | 201710226785.8 | 申请日： | 2017-04-10 |
| 公开（公告）号： | CN108693580A | 公开（公告）日： | 2018-10-23 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 北京微美云息软件有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G03F7/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100041 北京市石景山*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光栅 全息光栅 制作 光刻胶 全息 焦场 离子束溅射 离子束 基底 金膜 显影 旋涂 去除 成功率 曝光 | ||
1.一种全息平焦场光栅的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤1、基底准备，采用体积配比为2:1的浓H2SO4:H2O2溶液清洗，清洗后用热水冲洗晾干，使用棉球擦拭表面，然后对基底表面进行灰化处理，以增强表面附着力；
步骤2、旋涂光刻胶，旋涂瑞红光刻胶，采用密封涂胶，胶厚控制在300-400nm；
步骤3、曝光，搭建的球面波和非球面波记录光路曝光；
步骤4、显影，利用5％的NaOH溶液显影得到光刻胶光栅掩模；
步骤5、离子束刻烛，灰化技术控制光刻胶的占宽比，之后利用离子束刻蚀机KZ-400将光刻胶图形转移到基底上；
步骤6、去除残余光刻胶，利用浓H2SO4:H2O2溶液去除残余的光刻胶；
步骤7、离子束溅射渡金膜，利用离子束溅射渡膜机在融石英光栅上镀100nm左右的金膜。
2.根据权利要求1所述的全息平焦场光栅的制作方法，其特征在于，所述光栅基底的材料为融石英。
3.根据权利要求1所述的全息平焦场光栅的制作方法，其特征在于，所述球面波和非球面波记录光路为：激光器出来的441.6nm波长的光经分束棱镜分为两束，其中一束经平面反射镜反射后入射到空间滤波器，扩束为球面波入射到光栅基底表面，另一束镜平面反射镜后入射到空间滤波器，扩束为球面波后经辅助球面反射镜反射后变为非球面波入射到光栅基底表面，两束产生的光斑最终在光栅基底表面干涉产生变周期的条纹，并记录在光刻胶上。
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