[发明专利]全息平焦场光栅的制作方法

说明书

本发明提出的全息平焦场光栅的制作方法，涉及一种全息光栅制作方法，步骤主要包括基底准备、旋涂光刻胶、曝光、显影、离子束刻烛、去除残余光刻胶及最后的离子束溅射渡金膜。本发明的全息光栅制作方法，工艺简单、容易控制，成功率高。

技术领域

本发明涉及一种全息光栅制作方法，尤其是全息平焦场光栅的制作方法。

背景技术

全息平焦场光栅作为分光器件同时兼具色散、聚焦成像、校正像差、无鬼线、低杂散光等特性，自发明以来一直在极紫外和软X射线波段高分辨率光谱仪等领域中发挥重要作用。全息平焦场光栅的面型特征和刻槽分布规律使其具备了优秀的消像差能力，但同样使其研制难度大增。

发明内容

本发明提供的全息平焦场光栅的制作方法，减少工艺步骤，降低设备投资。

本发明具体采用如下技术方案实现：

一种全息平焦场光栅的制作方法，包括以下步骤：

步骤1、基底准备，采用体积配比为2:1的浓H₂SO₄:H₂O₂溶液清洗，清洗后用热水冲洗晾干，使用棉球擦拭表面，然后对基底表面进行灰化处理，以增强表面附着力；

步骤2、旋涂光刻胶，旋涂瑞红光刻胶，采用密封涂胶，胶厚控制在300-400nm；

步骤3、曝光，搭建的球面波和非球面波记录光路曝光；

步骤4、显影，利用5％的NaOH溶液显影得到光刻胶光栅掩模；

步骤5、离子束刻烛，灰化技术控制光刻胶的占宽比，之后利用离子束刻蚀机KZ-400将光刻胶图形转移到基底上；

步骤6、去除残余光刻胶，利用浓H₂SO₄:H₂O₂溶液去除残余的光刻胶；

步骤7、离子束溅射渡金膜，利用离子束溅射渡膜机在融石英光栅上镀100nm左右的金膜。

作为优选，所述光栅基底的材料为融石英。

作为优选，所述球面波和非球面波记录光路为：激光器出来的441.6nm波长的光经分束棱镜分为两束，其中一束经平面反射镜反射后入射到空间滤波器，扩束为球面波入射到光栅基底表面，另一束镜平面反射镜后入射到空间滤波器，扩束为球面波后经辅助球面反射镜反射后变为非球面波入射到光栅基底表面，两束产生的光斑最终在光栅基底表面干涉产生变周期的条纹，并记录在光刻胶上。

本发明提供的全息平焦场光栅的制作方法，其有益效果在于：工艺简单、容易控制，成功率高。

附图说明

图1是本发明超环面全息光栅制作方法流程图；

图2是球面波和非球面波记录光路图。

具体实施方式

为进一步说明各实施例，本发明提供有附图。这些附图为本发明揭露内容的一部分，其主要用以说明实施例，并可配合说明书的相关描述来解释实施例的运作原理。配合参考这些内容，本领域普通技术人员应能理解其他可能的实施方式以及本发明的优点。图中的组件并未按比例绘制，而类似的组件符号通常用来表示类似的组件。

现结合附图和具体实施方式对本发明进一步说明。