[发明专利]3-氰基吡唑并[1;5-a]嘧啶衍生物及其制备方法和用途

权利要求书

1.3-氰基吡唑并[1,5-a]嘧啶衍生物，其结构如式Ⅰ所示：

其中，A为C₅～C₁₀芳环或5～10元芳杂环；所述芳杂环的杂原子为N、O、S，杂原子个数为1～3；

R₁为-H、-OH、卤素、-CN、C₁～C₈烷基、C₁～C₈烷氧基或取代或未取代的C₅～C₁₀芳基；所述取代C₅～C₁₀芳基的取代基为-H、卤素或C₁～C₈烷基；

R₂为-H、-OH、卤素、C₁～C₈烷基、C₁～C₈烷氧基或取代或未取代的C₅～C₁₀芳基；所述取代C₅～C₁₀芳基的取代基为-H、卤素或C₁～C₈烷基；

R₃为-H、卤素、-CN、-NO₂、-CF₃、-NH₂、-SO₂Me、C₁～C₈烷基、C₁～C₈烷氧基或

R₄为-H、C₁～C₈烷基、C₃～C₈的环烷基、

X为卤素；n＝1～3。

2.根据权利要求1所述的3-氰基吡唑并[1,5-a]嘧啶衍生物，其特征在于：A为C₅～C₈芳环或5～8元芳杂环；所述芳杂环的杂原子为N、O、S，杂原子个数为1～3；

R₁为-H、-OH、卤素、-CN、C₁～C₆烷基、C₁～C₆烷氧基或取代或未取代的C₅～C₈芳基；所述取代C₅～C₈芳基的取代基为-H、卤素或C₁～C₆烷基；

R₂为-H、-OH、卤素、C₁～C₆烷基、C₁～C₆烷氧基或取代或未取代的C₅～C₈芳基；所述取代C₅～C₈芳基的取代基为-H、卤素或C₁～C₆烷基；

R₃为-H、卤素、-CN、-NO₂、-CF₃、-NH₂、-SO₂Me、C₁～C₆烷基、C₁～C₆烷氧基或

R₄为-H、C₁～C₆烷基或

X为卤素；n＝1～3；

优选的，A为C₅～C₆芳环或5～6元芳杂环；所述芳杂环的杂原子为N、O、S，杂原子个数为1～3；

R₁为-H、-OH、卤素、-CN、C₁～C₆烷基、C₁～C₄烷氧基或取代或未取代的C₅～C₆芳基；所述取代C₅～C₆芳基的取代基为-H、卤素或C₁～C₄烷基；

R₂为-H、-OH、卤素、C₁～C₄烷基、C₁～C₆烷氧基或取代或未取代的C₅～C₈芳基；所述取代C₅～C₈芳基的取代基为-H、卤素或C₁～C₄烷基；

R₃为-H、卤素、-CN、-NO₂、-CF₃、-NH₂、-SO₂Me、C₁～C₄烷基、C₁～C₄烷氧基或

R₄为-H、C₁～C₄烷基或

X为卤素；n＝1～3；

进一步的，A为C₅～C₆芳环或5～6元芳杂环；所述芳杂环的杂原子为N、O、S，杂原子个数为1～2；

R₁为-H、-OH、卤素、-CN、C₁～C₆烷基、C₁～C₄烷氧基或取代或未取代的苯基；所述取代苯基的取代基为-H、卤素或C₁～C₄烷基；

R₂为-H、-OH、卤素、C₁～C₄烷基、C₁～C₆烷氧基或取代或未取代的苯基；所述取代苯基的取代基为-H、卤素或C₁～C₄烷基；

R₃为-H、卤素、-CN、-NO₂、-CF₃、-NH₂、-SO₂Me、C₁～C₄烷基、C₁～C₄烷氧基或

R₄为-H、C₁～C₄烷基或

X为卤素；n＝1～3；

更进一步的，A为苯环或6元芳杂环；所述芳杂环的杂原子为N，杂原子个数为1～2；

R₁为-H、-OH、-F、-Cl、-Br、-CN、C₁～C₆烷基、C₁～C₄烷氧基或取代或未取代的苯基；所述取代苯基的取代基为-H、卤素或C₁～C₄烷基；

R₂为-H、-OH、-F、-Cl、-Br或C₁～C₄烷基；

R₃为-H、-F、-Cl、-Br、-CN、-NO₂、-CF₃、-NH₂、-SO₂Me、C₁～C₄烷基、C₁～C₄烷氧基或

R₄为-H、C₁～C₄烷基或

X为卤素；n＝1～3；

最优选的，A为苯环或6元芳杂环；所述芳杂环的杂原子为N，杂原子个数为1～2；

R₁为-H、-OH、-F、-Cl、-Br、-CN、甲基、乙基、异丙基、丁基、丙基或苯基；

R₂为-H、-OH、-F、-Cl、-Br、甲基、乙基、丙基、异丙基或丁基；

R₃为-H、-F、-Cl、-Br、-CN、-NO₂、-CF₃、-NH₂、-SO₂Me、甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基或

R₄为-H、甲基、乙基、丙基、丁基或

X为-F、-Cl或-Br；n＝1。