[发明专利]一种监控涂布显影设备灯箱内臭氧含量的装置及方法

说明书

技术领域

本发明涉及平板显示技术领域，尤其是涉及一种监控涂布显影设备灯箱内臭氧含量的装置及方法。

背景技术

薄膜晶体管(Thin film Transistor，TFT)技术是二十世纪九十年代发展起来的，采用新材料和新工艺的大规模半导体全集成电路制造技术，是液晶(Liquid Crystal，LC)、无机和有机薄膜电致发光平板显示器的基础。TFT是在玻璃或塑料基板等非单晶片或晶片上通过溅射、化学沉积工艺形成制造电路必须的各种膜，通过对膜的加工制作大规模半导体集成电路。

薄膜场效应晶体管是指液晶显示器上的每一液晶像素点都是由集成在其后的薄膜晶体管来驱动，从而可以做到高速度高亮度高对比度显示屏幕信息。TFT曝光部的生产工艺中，玻璃基板先进行清洗，清洗后在玻璃基板涂布一层光刻胶，之后进行烘干处理，烘干后玻璃基板进入曝光机，利用光罩在玻璃基板上对光阻定义图形，然后再经过显影制程显示图形。

但是，实际生产中，涂布制程对基板的洁净度要求高，特别是低温多晶硅(Low Temperature Poly-Silicon，LTPS)制程，超过1um的尘埃残留在基板上就会造成涂布不良，因此，涂布前清洗制程要求严格，清洗制程中为了有效去除玻璃基板上的有机物，常采用极紫外线(Extreme Ultraviolet，EUV)进行照射，但是照射时，灯箱内的臭氧浓度升高对非金属材料造成腐蚀，特别是传送机构齿轮之间的聚氨酯皮带，EUV照射后，皮带出现松散、开裂和开孔等现象，导致皮带大量更换，造成TFT的制作成本增大。

现有技术公开了一种涂布显影设备的结构示意图，参见图1，该设备包括灯箱1，所述灯箱1的上部设有气体引入口2，所述气体引入口2上分别设有用于检测气体流量的气体流量传感器21和用于控制气体流量的气体流量开关22，所述灯箱1的箱体上设有与气体流量传感器21电连接的气体流量显示器23。但该设备只能凭借操作人员的经验来调节引入灯箱1的稀释气体的流量，但是，现场实际情况复杂，且操作人员的主观性较大，无法依据灯箱内臭氧浓度进行合理调节。

发明内容

针对现有技术中所存在的上述技术问题，本发明提出了一种监控涂布显影设备灯箱内臭氧含量的装置和方法，可实现对灯箱内臭氧浓度的监控，并根据臭氧浓度调节引入灯箱的稀释气体的流量来降低臭氧的产生量，从而有效减少了EUV照射时，臭氧对传送机构齿轮之间的皮带的腐蚀，提高了皮带的使用寿命。

根据本发明的一方面，提出一种监控涂布显影设备灯箱内臭氧含量的装置，该装置包括灯箱，所述灯箱的上部设有气体引入口，所述气体引入口上分别设有用于检测气体流量的气体流量传感器和用于控制气体流量的气体流量开关，所述灯箱的箱体上设有与气体流量传感器电连接的气体流量显示器；

所述灯箱的底部连接气体采样装置，所述气体采样装置连接用于检测臭氧浓度的气体分析仪。

该装置通过设置与灯箱连通的气体采样装置以及与气体采样装置连接的气体分析仪，可实现对灯箱内臭氧浓度的量测监控，并根据臭氧浓度调节气体流量开关，从而调节引入灯箱的稀释气体的流量来减少氧气的含量，从而降低臭氧的产生量，以减少EUV照射时，臭氧对传送机构齿轮之间的皮带的腐蚀，提高了皮带的使用寿命。

作为对本申请的进一步改进，所述气体采样装置包括采样箱和真空泵，所述采样箱两个相对侧壁分别设有进气口和出气口，所述进气口连接灯箱的底部，所述出气口连接真空泵的进气端，所述真空泵的出气端连接三通阀，所述三通阀的两个端口分别连接气体分析仪和废气收集装置。

作为对本申请的进一步改进，所述采样箱的进气口与灯箱的底部之间以及所述采样箱的出气口与真空泵的进气端之间均通过金属管道连接，所述金属管道上分别设有各自对应的开关阀。

采样前，打开灯箱底部与采样箱进气口之间的开关阀、以及采样箱出气口与真空泵进气端之间的开关阀，并将三通阀切换至与废气收集装置连通，用于赶尽采样箱及管道内的气体。采样时，关闭三通，灯箱内的气体经进气口进入采样箱，当采样箱采样完毕后，将三通阀切换至与气体分析仪连通，气体分析仪对采样气体进行臭氧浓度的量测，量测完毕后，将三通阀切换至与废气收集装置连通，使采样箱内的气体全部导入废气收集装置，不影响下次采样。

作为对本申请的进一步改进，所述气体采样装置包括密闭箱体和设置于所述密闭箱体内的采样球；

所述密闭箱体连接气泵；

所述采样球的两端分别设有进气孔和出气孔，所述进气孔连接灯箱的底部，所述出气孔连接三通阀，所述三通阀的两个端口分别连接气体分析仪和废气收集装置。