[发明专利]真空干燥设备及显示面板的制备方法

权利要求书

1.一种真空干燥设备，其特征在于，包括真空腔室、恒温装置以及电场发生装置；所述恒温装置位于所述真空腔室内以用于对待加工基板进行温度处理；所述电场发生装置具有第一金属板以及第二金属板，所述第一金属板以及所述第二金属板均设在所述真空腔室的内腔，所述第一金属板位于所述内腔的底面以用于放置待加工基板，所述第二金属板平行设在所述第一金属板的上方，所述第二金属板将所述真空腔室的内腔分隔成位于所述第一金属板与所述第二金属板之间的第一子腔室以及所述第二金属板另一侧的第二子腔室，所述第二金属板上具有多个连通所述第一子腔室与所述第二子腔室的挥发通孔，所述第一金属板与所述第二金属板用于连接电路。

2.根据权利要求1所述的真空干燥设备，其特征在于，所述真空泵通过抽气管路与所述真空腔室连接，所述抽气管路连通于所述第二子腔室。

3.根据权利要求2所述的真空干燥设备，其特征在于，所述第二子腔室从靠近所述第二金属板的一侧至靠近所述抽气管路的一侧逐渐收窄。

4.根据权利要求1所述的真空干燥设备，其特征在于，还包括真空泵，所述真空泵连通于所述第二子腔室以用于对所述第一子腔室与所述第二子腔室抽真空。

5.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

(1)将有图案化阳极层的基板在紫外灯下紫外照射处理预设时间；

(2)制备空穴注入层：将配好墨水装入打印设备中，调节打印参数，使墨滴落入步骤(1)紫外处理后的所述有图案化阳极层的基板的像素区内，将该有图案化阳极层的基板转入权利要求1-4任意一项所述的真空干燥设备的真空腔室的内腔中，通过真空泵将真空腔室抽至压强为50Pa，电场发生装置的第一金属板与第二金属板之间的电场强度为3kv/cm，电场方向向上，使得有图案化阳极层的基板上的溶剂均匀挥发形成40nm厚度均匀的薄膜以得到第一薄膜化基板；将所述第一薄膜化基板在空气中150℃加热30min；

(3)制备空穴传输层：将配好墨水装入打印设备中，调节打印参数，使墨滴沉积在所述第一薄膜化基板上的薄膜上，并将该第一薄膜化基板转入所述真空腔室内腔中，通过所述真空泵将所述真空腔室抽至压强为30Pa，所述电场发生装置的所述第一金属板与所述第二金属板之间的电场强度为5kv/cm，电场方向向上，使得所述第一薄膜化基板上的溶剂均匀挥发形成40nm厚度均匀的薄膜以得到第二薄膜化基板；将所述第二薄膜化基板在空气中120℃加热20min；

(4)制备发光层：将荧光聚合物墨水装入打印设备中，调节打印参数，使三种墨滴分别沉积在所述第二薄膜化基板上的对应的像素区内，将该第二薄膜化基板转入所述真空腔室中，通过所述真空泵将所述真空腔室抽至压强为10Pa，所述电场发生装置的所述第一金属板与所述第二金属板之间的电场强度为5kv/cm，电场方向向上，使得所述第二薄膜化基板上的溶剂均匀挥发分别形成60nm、80nm以及80nm厚度均匀的发光层薄膜以得到第三薄膜化基板；将该第三薄膜化基板在氮气中120℃加热10min；

(5)制备电子注入层：在所述第三薄膜化基板的发光层薄膜上蒸镀一层1.5nm厚的空穴注入材料LiF形成电子注入层,蒸镀速率为真空度为2X10^-4Pa；

(6)制备金属阴极：在经过步骤(5)蒸镀后的电子注入层上蒸镀一层120nm厚的阴极Mg:Ag合金层，即得显示面板，其中Mg:Ag的重量比为1:9,Mg:Ag蒸镀速率分别控制为和真空度为2X10^-4Pa。

6.根据权利要求5所述的显示面板的制备方法，其特征在于，荧光聚合物墨水可以是PFO、P-PPV以及MEH-PPV三种荧光聚合物墨水，或者是PFO:Firpc:OXD-7、PFO:Ir(mppy)3:PBD、PFO:Ir(piq)3:PBD组成的磷光墨水体系。

7.根据权利要求5所述的显示面板的制备方法，其特征在于，步骤(1)所述的紫外处理是将所述图案化基板在150w的紫外灯下紫外照射处理3min。