[发明专利]一种磁控溅射倾斜沉积镀膜装置

权利要求书

1.一种磁控溅射倾斜沉积镀膜装置，包括溅射腔、腔门、手套箱和过渡腔，其特征在于：

所述溅射腔中设有基片转动电机、旋转轴、底座、伸缩支架、顶板、基片架、靶枪、靶材和靶材架；

旋转轴连接底座和基片旋转电机，底座固定且始终处于水平；伸缩支架连接底座和顶板，伸缩支架至少三个，各伸缩支架的两端分别固定在底座和顶板的边缘，且长度可调；顶板的下方连接基片架，基片架用于放置待镀基片；顶板的倾斜带动加热台，基片架和待镀基片同时一致倾斜；靶材架上安装有至少一个靶枪，靶材固定在靶枪顶部；

所述过渡腔中设有传送基片架和磁力传送装置，传送基片架与磁力传送装置连接，用于传送待镀基片至溅射腔中；

所述溅射腔、手套箱和过渡腔通过3个腔门实现两两连接。

2.如权利要求1所述磁控溅射倾斜沉积镀膜装置，其特征在于：所述伸缩支架通过外部旋钮控制其伸缩。

3.如权利要求1所述磁控溅射倾斜沉积镀膜装置，其特征在于：所述靶枪顶部的朝向腔门一侧或待镀基片一侧，且朝向待镀基片的角度可变。

4.如权利要求1所述磁控溅射倾斜沉积镀膜装置，其特征在于：所述靶材架底部还设有旋转电机以带动靶材架旋转，使需要更换的靶材移动至腔门处。

5.如权利要求1所述磁控溅射倾斜沉积镀膜装置，其特征在于：所述顶板和基片架之间还设有加热台。