[发明专利]一种制备薄膜的方法

说明书

本申请公开了一种薄膜的光学参数与制备工艺参数对应关系的确定方法，用于解决现有技术中不能定量地确定各层薄膜的致密度等性质的问题，包括：在多个预定制备工艺参数下分别制备薄膜；确定所述多个预定制备工艺参数下制备的各薄膜的光学参数，得到所述薄膜的光学参数与制备工艺参数对应关系，以便根据所述对应关系制备满足制备需求的薄膜。本申请还公开了一种制备薄膜的方法。

技术领域

本申请涉及光电技术领域，尤其涉及一种制备薄膜的方法、以及一种薄膜的光学参数与制备工艺参数对应关系的确定方法。

背景技术

随着微加工工艺的发展，薄膜在各个领域均得到了广泛的应用，其中金属薄膜在机械学科、电子学、磁学和光学等领域都有着重要的应用。薄膜制备工艺可以广泛应用于光电技术领域，比如应用于铜铟镓硒(CuInGaSe₂，CIGS)薄膜太阳能电池的制备中。

在制备薄膜的过程中，往往会根据不同的需求来制备致密度不同的薄膜，比如，CIGS薄膜太阳能电池的钼背电极层往往包含多层致密度不同的钼膜，其中，第一层钼膜用于与CIGS薄膜太阳能电池的衬底紧密结合，该层薄膜的疏松度较高时太阳能电池的性能会较好，第二层钼膜用于降低电阻率，则该层薄膜密度较高时太阳能电池的性能会较好。

在现有技术中，当期望制备致密度不同的薄膜时，不能定量地确定各层薄膜的致密度等性质。

发明内容

本申请实施例提供一种薄膜的光学参数与制备工艺参数对应关系的确定方法，用于解决现有技术中不能定量地确定各层薄膜的致密度等性质的问题。

本申请实施例提供一种制备薄膜的方法，用于解决现有技术中不能定量地确定各层薄膜的致密度等性质的问题。

本申请实施例采用下述技术方案：

一种薄膜的光学参数与制备工艺参数对应关系的确定方法，包括：

在多个预定制备工艺参数下分别制备薄膜；

确定所述多个预定制备工艺参数下制备的各薄膜的光学参数，得到所述薄膜的光学参数与制备工艺参数对应关系，以便根据所述对应关系制备满足制备需求的薄膜。

一种制备薄膜的方法，包括：

根据待制备薄膜的制备需求、第一对应关系和第二对应关系，确定制备所述薄膜的制备工艺参数和制备时间，其中，所述制备需求包括待制备薄膜的厚度和光学参数，所述第一对应关系为所述薄膜的光学参数与制备工艺参数对应关系，所述第二对应关系为所述薄膜的制备时间与厚度的对应关系；

根据确定的制备工艺参数和制备时间，制备所述薄膜。

本申请实施例采用的上述至少一个技术方案能够达到以下有益效果：

本申请中，能够根据待制备薄膜的制备需求、第一对应关系和第二对应关系，确定制备该薄膜的制备工艺参数和制备时间，其中，制备需求包括待制备薄膜的厚度和光学参数，第一对应关系为该薄膜的光学参数与制备工艺参数对应关系，第二对应关系为该薄膜的制备时间与厚度的对应关系，然后根据确定的制备工艺参数和制备时间，制备该薄膜。本申请中，通过薄膜的光学参数来定量地表征薄膜的致密度等性质，这样便能够通过薄膜的光学参数定量地表征薄膜的制备需求，当期望制备某种致密度的薄膜时，可以通过光学参数和制备工艺参数之间的对应关系，通过控制制备工艺参数来制备符合制备需求的薄膜。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本申请的进一步理解，构成本申请的一部分，本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并不构成对本申请的不当限定。在附图中：

图1为本申请实施例提供的一种钼背电极层的结构示意图；

图2为本申请实施例提供的溅射气压为0.1Pa时制备的钼膜的测量值和拟合值示意图；