[发明专利]一种主动开关阵列基板及其制造方法、显示面板

说明书

技术领域

本发明属于显示屏技术领域，尤其涉及一种主动开关阵列基板及其制造方法、显示面板。

背景技术

越来越多的显示面板生产厂家使用在薄膜晶体管(Thin-filmtransistor，简称TFT)的阵列上制作彩色滤光膜(Color Filter on Array，简称COA)的工艺及白、红、绿以及蓝四色(white,red,green,blue,简称WRGB)技术。其中，COA工艺可提升显示面板曲面画质或藉此简化上板的结构(例如:简化平面转换(In-Plane Switching，简称IPS)液晶模式上板的平坦化层(Over Coat，简称OC)结构)；而WRGB技术可以提升面板穿透率、降低面板的能耗并节省背光成本。

传统COA结构搭配WRGB技术的显示面板的阵列制程(Array)工艺流程如下：传统COA结构搭配WRGB技术在栅极与源极制程完成之后，先进行第一个绝缘层的成型工序；而后再完成彩色光阻层(包括红色光阻、绿色光阻以及蓝色光阻)的涂布、曝光与显影步骤，透明光阻层的涂布、曝光与显影步骤。彩色光阻层及透明光阻层的结构完成之后再进行第二个绝缘层的成型工序，然后涂布光刻胶层(也叫光阻)，并利用带有通孔的掩膜板进行曝光操作，之后再显影与蚀刻以除去对应于通孔处的位于阵列上方的绝缘层以及绝缘层，后续再除去光刻胶层以接续后面的像素电极制程(Pixel Electrode，简称PE)。

薄膜晶体管显示面板产业由于工艺复杂且设备投资巨大，所以生产的成本很高，随着市场的激烈竞争，降低屏的生产成本已是平板显示行业必然的发展方向，且大部分旧式的薄膜晶体管显示面板产线仅适合红、绿及蓝三原色技术的生产工艺，并无透明光阻相关的生产设备及厂房空间。因此，需要研发一种新的显示器生产技术，以进一步降低生产成本，提高生产效率。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于提供一种主动开关阵列基板及其制造方法、显示面板，旨在进一步降低显示面板的生产成本，提高生产效率。

本发明是这样实现的，一种主动开关阵列基板的制造方法，所述制造方法包括以下步骤：

在一基板上形成主动开关的栅极、绝缘层、主动层以及欧姆接触层；

于所述欧姆接触层以及所述绝缘层上形成所述主动开关的源极与漏极；

于所述源极、漏极以及所述绝缘层上沉积一保护层；

于所述保护层上沉积一彩色滤光层并进行曝光及显影；

于所述彩色滤光层及保护层上沉积一层可被可见光穿透过的光刻胶层；

于所述光刻胶层上直接沉积一透明导电层，并蚀刻所述透明导电层，以形成像素电极层。

进一步地，所述在一形成主动开关的栅极的具体步骤包括：

基板清洗，去除异物；

成膜工艺，在干净的基板表面，通过溅射沉积形成金属薄膜；

上光阻，在已形成的金属薄膜上面均匀涂覆一层光刻胶；

曝光，紫外线透过掩模板照射光刻胶，进行曝光；

显影，光刻胶曝光部分被显影液溶解，留下部分图案呈现所需形状；

蚀刻，把基板放入对应腐蚀液或腐蚀气体中，腐蚀掉无光刻胶覆盖的薄膜；

去光阻，去除残余的光刻胶，留下所需形状的金属薄膜，以形成扫描线、主动开关的栅极以及共通电极。

进一步地，所述于所述欧姆接触层以及所述绝缘层上形成所述主动开关的源极与漏极的步骤具体包括：

成膜工艺，在所述欧姆接触层以及所述绝缘层上，通过溅射沉积形成金属薄膜；

上光阻，在已形成的金属薄膜上面均匀涂覆一层光刻胶；

曝光，紫外线透过掩模板照射光刻胶，进行曝光；

显影，光刻胶曝光部分被显影液溶解，留下部分图案呈现所需形状；

蚀刻，把基板放入对应腐蚀液或腐蚀气体中，腐蚀掉无光刻胶覆盖的薄膜；

去光阻，去除残余的光刻胶，留下所需形状的金属薄膜，以形成数据线、并于欧姆接触层上定义出主动开关的源极及漏极。

进一步地，所述于所述保护层上沉积一彩色滤光层并进行曝光及显影的步骤具体包括：

在所述绝缘层上涂覆一层感光的第一有机感光层，掩模曝光、显影，形成与像素对应的第一滤光层；

在所述绝缘层上涂覆一层感光的第二有机感光层，掩模曝光、显影，形成与像素对应的第二滤光层；

在所述绝缘层上涂覆一层感光的第三有机感光层，掩模曝光、显影，形成与像素对应的第三滤光层。

进一步地，沉积的所述光刻胶具有流平性。

本发明为解决上述技术问题，还提供了一种主动开关阵列基板，包含：