[发明专利]一种氟化锗化氢二维材料及制备方法在审

专利信息
申请号: 201710270932.1 申请日: 2017-04-24
公开(公告)号: CN108726557A 公开(公告)日: 2018-11-02
发明(设计)人: 封伟;王宇;冯奕钰;李瑀;赵付来;张盼盼 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: C01G17/00 分类号: C01G17/00
代理公司: 天津创智天诚知识产权代理事务所(普通合伙) 12214 代理人: 王秀奎
地址: 300072*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 二维材料 氟化锗 氟化 制备 耐受性 析出 材料制备 层状晶体 反应原料 金属单质 类石墨烯 熔融冷却 浓盐酸 锗化氢 氟气 锗化 氧气
【说明书】:

发明公开一种氟化锗化氢二维材料及制备方法,以金属单质锗和钙熔融冷却析出得到层状晶体二锗化钙,与浓盐酸在低温下处理得到层状锗化氢,最后用氟气氟化得到氟化锗化氢材料。本发明技术方案中反应原料易得,过程简便,工艺简单,氟化后材料对氧气耐受性提高,材料制备以及稳定性对比其他类石墨烯二维材料具有显著优势。

技术领域

本发明涉及二维锗基材料的氟化,属于合成技术和二维锗基材料制备技术领域,具体涉及一种氟化锗化氢二维材料及制备方法。

背景技术

二维材料具有超高载流子迁移率、具有狄拉克锥的线性色散关系等优势而在光学、电学和催化等领域具有非常广阔的应用前景,受到了广大研究人员的青睐。然而除了石墨烯以外,由于很多二维材料倾向于sp3杂化,使得sp2杂化的层状二维材料本身对空气、温度等环境因素不稳定,从而影响了材料的实际应用。所以,致力于提高二维材料的稳定性是一个迫切的需要。研究发现对二维材料进行共价修饰能有效提高材料本身的稳定性。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术,提供一种氟化锗化氢二维材料及制备方法,以制备得到的二维材料锗化氢,与氟气在一定温度下进行反应氟化,氟原子取代氢原子从而得到氟化后的二维材料。

本发明的技术目的通过下述技术方案予以实现:

氟化锗化氢二维材料及制备方法,按照下述步骤进行:

步骤1,在惰性气氛中将金属单质钙和锗以物质的量比例1:2进行配料,置于石英玻璃管内真空封装,加热到950℃—1100℃待配料熔融后,经45—120小时缓慢降温至室温20—25摄氏度,得到二锗化钙;

在步骤1中,惰性气氛为氮气、氦气或者氩气。

在步骤1中,加热温度为1000—1050摄氏度,控制降温速度,以使在60—90小时内降温至室温。

步骤2,将步骤1制备的二锗化钙置于浓盐酸中,在-35℃—-45℃下惰性气氛中处理160—240小时,过滤洗涤干燥后得到锗化氢;

在步骤2中,惰性气氛为氮气、氦气或者氩气。

在步骤2中,处理时间为180—220小时。

在步骤2中,浓盐酸为质量百分数35—37%的氯化氢水溶液。

在步骤2中,在二锗化钙置于浓盐酸中进行处理时,进行搅拌,搅拌速度为每分钟200—300转;为保证二锗化钙的转化,浓盐酸的用量为过量。

步骤3,将步骤2制备的锗化氢与氟气反应,以使氟气氟化得到氟化锗化氢材料,在25℃—60℃反应20—50小时,得到氟化锗化氢。

在步骤3中,优选40—60摄氏度,反应30—45小时。

本发明的二维材料锗化氢与氟气在一定温度下进行反应氟化,得到氟化后的二维材料,如附图中电镜形貌图片可知,氟化锗化氢具有片层状结构,其尺寸大小为100±10nm。以XRD进行表征,如附图1—3所示,与CaGe2的标准PDF卡片对比,峰位置对应很好,证明锗钙熔融冷却析出产物以CaGe2存在;图2与图1对比,经浓盐酸处理后CaGe2晶相消失,新的产物主要沿4个晶面取向;图3与图2对比,氟化以后的产物基本沿着一个晶面高度取向。由图4可知,在2000cm-1附近有Ge-H的强烈伸缩振动峰,同时在575、480cm-1附近有Ge-H摇摆振动峰,证明锗氢键存在。如图5所示,氟化锗化氢产物在615cm-1附近存在强烈Ge-F振动峰,证明有氟取代氢从而与锗成键,形成锗氢键和锗氟键的同时存在。

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