[发明专利]着色硬化膜的制造方法及像素图案的形成方法在审
| 申请号： | 201710273429.1 | 申请日： | 2017-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN107329366A | 公开（公告）日： | 2017-11-07 |
| 发明（设计）人： | 柳政完;杉田光;河合孝広;田中圭;佐藤光央 | 申请（专利权）人： | JSR株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/40;G02B5/20 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司11205 | 代理人： | 杨文娟,臧建明 |
| 地址： | 日本东京港*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 着色 硬化 制造 方法 像素 图案 形成 | ||
1.一种着色硬化膜的制造方法，其特征在于包括下述的步骤1～步骤4，
步骤1：将含有A着色剂、B聚合性化合物及C感放射线性聚合起始剂的着色感放射线性组合物涂布在基板上而形成涂膜的步骤；
步骤2：对所述步骤1中所获得的涂膜照射放射线1的步骤；
步骤3：对所述步骤2中所获得的涂膜进行显影的步骤；
步骤4：对所述步骤3中所获得的涂膜照射放射线2的步骤，
其中，放射线1与放射线2可相同，也可以不同。
2.根据权利要求1所述的着色硬化膜的制造方法，其特征在于：放射线2包含波长405nm及波长436nm，且相对于波长405nm的峰值强度及波长436nm的峰值强度中的更小的峰值强度，波长313nm及波长365nm中的峰值强度为1/4以下。
3.根据权利要求1或2所述的着色硬化膜的制造方法，其特征在于：A着色剂含有染料。
4.根据权利要求1或2所述的着色硬化膜的制造方法，其特征在于：着色感放射线性组合物进而含有D感放射线性酸产生剂，所述D感放射线性酸产生剂为选自由三氯甲基-均三嗪类、锍盐、錪盐、四级铵盐类、重氮甲烷化合物、酰亚胺磺酸酯化合物、及肟磺酸酯化合物所组成的群组中的至少一种。
5.根据权利要求1或2所述的着色硬化膜的制造方法，其特征在于：基板为树脂制基板。
6.根据权利要求1或2所述的着色硬化膜的制造方法，其特征在于：基板为发光元件搭载基板。
7.一种彩色滤光片的像素图案的形成方法，其特征在于：包括下述的步骤1～步骤4，
步骤1：将含有A着色剂、B聚合性化合物及C感放射线性聚合起始剂的着色感放射线性组合物涂布在基板上而形成涂膜的步骤；
步骤2：对所述步骤1中所获得的涂膜照射放射线1的步骤；
步骤3：对所述步骤2中所获得的涂膜进行显影的步骤；
步骤4：对所述步骤3中所获得的涂膜照射放射线2的步骤，
其中，放射线1与放射线2可相同，也可以不同。
8.根据权利要求7所述的彩色滤光片的像素图案的形成方法，其特征在于：
放射线2包含波长405nm及波长436nm，且相对于波长405nm的峰值强度及波长436nm的峰值强度中的更小的峰值强度，波长313nm及波长365nm中的峰值强度为1/4以下。
9.根据权利要求7或8所述的彩色滤光片的像素图案的形成方法，其特征在于：
基板为树脂制基板。
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