[发明专利]着色硬化膜的制造方法及像素图案的形成方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种着色硬化膜的制造方法及彩色滤光片的像素图案的形成方法。

背景技术

作为彩色滤光片的制造方法，已知有例如喷墨方式、电沉积法、印刷法、光刻法等，但近年来，光刻法正成为主流。当通过光刻法来制造彩色滤光片时，例如采用如下的方法：将着色感放射线性组合物涂布在基板上而形成涂膜后，隔着具有规定的开口图案的光掩模曝光放射线，继而进行显影来将未曝光部分溶解去除，由此形成图案(专利文献1)。而且，在形成图案后，为了确保耐热性或耐溶剂性、对于基板的密接性、电特性等的可靠性，通常在200℃～250℃的温度下进行30分钟～60分钟左右的后烘烤，由此促进涂膜的硬化。

近年来，柔性显示装置受到瞩目，正在研究从先前的玻璃基板替换成柔性的塑料基板。但是，塑料基板通常耐热性低，在200℃～250℃的后烘烤温度下容易引起塑料基板的伸长或收缩。考虑在使用此种塑料基板的情况下不进行后烘烤、或以更低的温度进行后烘烤，但涂膜的硬化容易变得不充分，因此当通过光刻法来反复涂布着色感放射线性组合物时，产生朝邻接的其他颜色的图案进行色移、或者着色图案的耐溶剂性或与基板的密接性下降等问题。

针对此种问题，报告有通过使用包含如下树脂的彩色滤光片用感光性着色组合物，可形成即便是进行150℃以下的温度的后烘烤，也难以进行色移，且耐溶剂性及感度良好的着色图案，所述树脂将于侧链上含有乙烯性不饱和双键的构成单元的含有率设为特定范围内(专利文献2、专利文献3)。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开平2-144502号公报

[专利文献2]日本专利特开2015-125402号公报

[专利文献3]日本专利特开2015-143840号公报

发明内容

[发明所要解决的问题]

本发明的课题在于提供一种即便不进行后烘烤或进行低温的后烘烤，也难以进行色移，且耐溶剂性及与基板的密接性良好的着色硬化膜的制造方法及彩色滤光片的像素图案的形成方法。

[解决问题的技术手段]

本发明者等人为了开发即便进行低温的后烘烤，也可以使用广泛的着色感放射线性组合物来形成所期望的着色图案的方法而进行研究的结果，发现将着色感放射线性组合物涂布在基板上而形成涂膜，对该涂膜进行曝光并进行显影后，进行使用具有特定的分光分布的放射线的后曝光，由此可形成即便不进行后烘烤或进行低温的后烘烤，也难以进行色移，且耐溶剂性及与基板的密接性良好的着色图案。

即，本发明提供一种着色硬化膜的制造方法，其特征在于：包括下述步骤(1)～步骤(4)。

另外，本发明提供一种彩色滤光片的像素图案的形成方法，其特征在于：包括下述步骤(1)～步骤(4)。

进而，本发明提供一种通过包含下述步骤(1)～步骤(4)的步骤所制造的着色硬化膜、具备该着色硬化膜(像素)的彩色滤光片、显示元件及发光元件、以及具备彩色滤光片的显示元件及发光元件。

步骤(1)：将含有(A)着色剂、(B)聚合性化合物及(C)感放射线性聚合起始剂的着色感放射线性组合物涂布在基板上而形成涂膜的步骤；

步骤(2)：对所述步骤(1)中所获得的涂膜照射放射线(1)的步骤；

步骤(3)：对所述步骤(2)中所获得的涂膜进行显影的步骤；

步骤(4)：对所述步骤(3)中所获得的涂膜照射放射线(2)的步骤。

其中，放射线(1)与放射线(2)可相同，也可以不同。

[发明的效果]

根据本发明，可提供一种即便不进行后烘烤或进行低温的后烘烤，也难以进行色移，且耐溶剂性及与基板的密接性良好的着色硬化膜的制造方法及彩色滤光片的像素图案的形成方法。

附图说明

图1是表示实施例中所使用的放射线(A)的分光分布的图。

图2是表示实施例中所使用的放射线(B)的分光分布的图。

图3是表示实施例中所使用的放射线(C)的分光分布的图。

图4是表示实施例中所使用的放射线(D)的分光分布的图。

具体实施方式

以下，对本发明进行详细说明。

<着色硬化膜的制造方法>